[发明专利]扫描曝光方法无效
| 申请号： | 200810185963.8 | 申请日： | 2008-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN101750901A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 施江林;黄浚彦 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈晨;张浴月 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 扫描 曝光 方法 | ||
1.一种扫描曝光方法，包括：
将一掩模及一基板往一方向相对移动，特征在于，其中该掩模及该基板在单次照射的移动过程中，具有至少二种不同的等相对速度，以使该基板一被曝光的照射区域具有一期望尺寸。
2.如权利要求1所述的扫描曝光方法，特征在于，该掩模及基板的等相对速度(Vi)的决定方式，包括：
提供一曝光装置的历史数据，包括该曝光装置在曝光至少一先前基板时，该掩模及该先前基板在移动过程中的等相对速度(Vo)；
提供该先前基板的测量数据，包括该先前基板被曝光的照射区域的测量数据；以及
依据该曝光装置的历史数据及该先前基板的测量数据，决定该掩模及该基板的等相对速度(Vi)。
3.如权利要求2所述的扫描曝光方法，特征在于，该基板的照射区域的期望尺寸包括该照射区域于该方向的长度(Li)。
4.如权利要求3所述的扫描曝光方法，特征在于，该先前基板的照射区域的测量数据包括该照射区域于该方向的长度(Lo)。
5.如权利要求3所述的扫描曝光方法，特征在于，该先前基板的照射区域的测量数据包括经叠对测量后所得该照射区域于该方向的长度(Lo)。
6.如权利要求4或5任一所述的扫描曝光方法，特征在于，该掩模及该基板的等相对速度(Vi)是利用关系式：Vo/Lo＝Vi/Li决定。
7.一种扫描曝光方法，特征在于，包括：
将一掩模及一基板往一方向移动，以将该掩模的图案转移至该基板上的一照射区域中，其中该被曝光的照射区域具有一期望尺寸，且该掩模及该基板在单次照射过程中的等相对速度(Vi)的决定方式，包括：
提供一曝光装置的历史数据，包括该曝光装置在曝光至少一先前基板时，该掩模及该先前基板在移动过程中的等相对速度(Vo)；
提供该先前基板的测量数据，包括该先前基板被曝光的照射区域的测量数据；以及
依据该曝光装置的历史数据及该先前基板的测量数据，决定该掩模及该基板的等相对速度(Vi)。
8.如权利要求7所述的扫描曝光方法，特征在于，该基板被曝光的照射区域的期望尺寸包括该照射区域于该方向的长度(Li)，该先前基板被曝光的照射区域的测量数据包括经叠对测量后所得该照射区域于该方向的长度(Lo)，且該掩模及该基板的等相对速度(Vi)是利用关系式：Vo/Lo＝Vi/Li决定。
9.如权利要求8所述的扫描曝光方法，特征在于，该先前基板被曝光的照射区域的测量数据包括该照射区域于该方向的长度(Lo)。
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