[发明专利]气体注入单元和具有气体注入单元的薄膜沉积设备有效
申请号: | 200810187374.3 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN101481797A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 李昌宰;权宁浩 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司;ADS有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/00;H01L51/56;H01L21/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孟 锐 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 注入 单元 具有 薄膜 沉积 设备 | ||
1.一种气体注入单元,其包括:
供应管单元,其具有多个供应管,不同材料被供应到所述多个供应管;以及
注入器单元,其连接到所述供应管单元,且具备与所述供应管连通的通路以及与 所述通路连通并注入气体的一个以上注入孔,
其中至少一个热传递部件提供在所述通路上,所述注入器单元包括上部主体和耦 合到所述上部主体的下部主体,所述上部和下部主体由具有不同热膨胀系数的不同 材料形成,且所述注入器单元随温度升高而变形以向下或向上凸出,由此气体注入 方向在所述注入器单元的注入侧发生变化;用于上下移动和旋转的驱动轴提供于所 述上部主体的顶表面处;与所述供应管连通的所述通路提供于所述上部主体中;且 与所述通路连通的所述注入孔提供于所述下部主体的下表面处。
2.根据权利要求1所述的气体注入单元,其中将所述材料气化的加热单元提供于所述 注入器单元中。
3.根据权利要求1所述的气体注入单元,其中所述注入器单元的上部主体包括第一 板,在其顶表面处提供所述用于上下移动和旋转的驱动轴;以及第二板,其具备与 所述供应管单元的供应通路连通的通路,
其中所述注入器单元的下部主体包括第三板,在其下表面处提供与所述通路连通 的所述注入孔,且
其中所述第一、第二和第三板按顺序堆叠。
4.一种气体注入单元,其包括:
供应管单元,其具有供应管,沉积材料被供应到所述供应管;以及
注入器单元,其连接到所述供应管单元,且具备与所述供应管连通的通路以及与 所述通路连通并注入气体的一个以上注入孔,
其中所述注入器单元包括上部主体和耦合到所述上部主体的下部主体,所述上部 和下部主体由具有不同热膨胀系数的不同材料形成,且所述注入器单元随温度升高 而变形以向下或向上凸出,由此气体注入方向在所述注入器单元的注入侧发生变 化;用于上下移动和旋转的驱动轴提供于所述上部主体的顶表面处;与所述供应管 连通的所述通路提供于所述上部主体中;且与所述通路连通的所述注入孔提供于所 述下部主体的下表面处。
5.根据权利要求4所述的气体注入单元,其中所述上部和下部主体由不锈钢(SUS) 金属、铝金属和铜金属中的一者形成。
6.根据权利要求4所述的气体注入单元,其中将所述沉积材料气化的加热单元提供于 所述注入器单元中。
7.一种薄膜沉积设备,其包括:
腔室,其提供沉积空间;
衬底支撑基底,其安置在所述腔室中且经配置以支撑衬底;以及
气体注入单元,其面向所述衬底支撑单元而安置,
其中所述气体注入单元包括:
供应管单元,其具有供应管,沉积材料被供应到所述供应管;以及
注入器单元,其连接到所述供应管单元,且具备与所述供应管连通的通路以及与 所述通路连通并注入气体的一个以上注入孔,
其中至少一个热传递部件提供在所述通路上,所述注入器单元包括上部主体和耦 合到所述上部主体的下部主体,所述上部和下部主体由具有不同热膨胀系数的不同 材料形成,且所述注入器单元随温度升高而变形以向下或向上凸出,由此气体注入 方向在所述注入器单元的注入侧发生变化;用于上下移动和旋转的驱动轴提供于所 述上部主体的顶表面处;与所述供应管连通的所述通路提供于所述上部主体中;且 与所述通路连通的所述注入孔提供于所述下部主体的下表面处。
8.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备,其中提供多个所述供应管,使得分别向其供 应不同的沉积材料,且所述通路与所述供应管连通。
9.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备,其中所述上部和下部主体由不锈钢(SUS)、 铝和铜中的一者形成。
10.根据权利要求7所述的薄膜沉积设备,其进一步包括变形控制板,所述变形控制板 耦合到所述注入单元的上面形成所述注入孔的一个表面,且由热膨胀系数与所述注 入器单元不同的金属形成。
11.根据权利要求10所述的薄膜沉积设备,其中所述注入器单元和所述变形控制板由 不锈钢(SUS)、铝和铜中的一者形成。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的