[发明专利]蚀刻液有效
| 申请号： | 200810187717.6 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101487122A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 中村幸子;中岛庆一 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋 亭;苗 堃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种蚀刻液，是含有硫酸、过氧化氢及水的铜的蚀刻液，其特征在于，含有苯基四唑类和硝基苯并三唑类，
所述苯基四唑类的浓度为0.01～0.7g/L，
所述硝基苯并三唑类的浓度为0.01～1.5g/L，
将所述苯基四唑类的浓度记作A g/L，并将所述硝基苯并三唑类的浓度记作B g/L时，B/A为1.0～3.0。
2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其中，所述苯基四唑类是1-苯基四唑、5-苯基四唑、在1-苯基四唑和5-苯基四唑中导入了-NH2基或-SH基的化合物以及1-苯基四唑和5-苯基四唑的金属盐中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的蚀刻液，其中，所述硝基苯并三唑类是4-硝基苯并三唑和5-硝基苯并三唑中的至少一个。
4.根据权利要求1所述的蚀刻液，其中，所述硫酸浓度为60～220g/L，所述过氧化氢的浓度为5～70g/L。
5.根据权利要求1所述的蚀刻液，其中，还含有苯磺酸类。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的蚀刻液，还含有氯离子源。
7.根据权利要求6所述的蚀刻液，所述氯离子源是氯化钠、氯化钾、氯化铵及盐酸中的至少一个。
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