[发明专利]包括半导体薄膜的半导体器件、该薄膜的结晶方法及装置

权利要求书

1.一种光调制元件，包括两种或更多种光强调制区域，该光强调制区域调制光并且形成预定光强分布，

其特征在于，该两种或更多种光强调制区域中的至少一种由两种基本图案组成，该两种基本图案中的第一基本图案包括一组阻光区域和透光区域，并且该两种基本图案中的第二基本图案仅仅包括阻光区域，或者包括一组阻光区域和透光区域，所述第二基本图案中的该阻光区域与该透光区域的面积比大于所述第一基本图案中的该阻光区域与该透光区域的面积比。

2.一种光调制元件，包括两种或更多种光强调制区域，该光强调制区域调制光并且形成预定光强分布，

其特征在于，该两种或更多种光强调制区域中的至少一种包括第一基本图案和第二基本图案，该第一基本图案包括一组具有不同相位调制值的两种或更多种相位调制区域，该第二基本图案仅仅包括具有单个相位值的区域，或者包括一组具有不同相位值的两种或更多种相位调制区域，所述第二基本图案中的改变相位值的区域之间的面积比不同于所述第一基本图案中的改变相位值的区域之间的面积比。