[发明专利]氢氟酸处理装置

权利要求书

1、一种氢氟酸处理装置，其设置在无尘室内，并与使用氟类材料的半 导体处理装置相邻，其用于在从所述半导体处理装置排出的混入有氢氟酸的 废水无需从所述无尘室内排出的状态下，对该废水进行处理，其包括：

pH调整部，其具有处理槽、连接于所述处理槽的第一路径及第二路径、 设置在该处理槽上并用于循环的第三路径，通过所述第一路径向所述处理槽 加入所述废水，并通过所述第二路径加入碱性药剂，从而得到pH值比所述 废水更大的第一被处理水，该第一被处理水在所述第三路径中循环时，测定 并调整pH值，由此得到pH值在所希望范围的第二被处理水；

第四路径，转移所述第二被处理水；

反应槽，在所述第二被处理水中添加钙成分，生成氟化钙；

分离槽，从所述第二被处理水中分离所述氟化钙。

2、权利要求1所述的氢氟酸处理装置，其中，所述pH调整部具有连 接在所述第三路径上的pH计，根据所述pH计的值来控制所述第三路径的 开与关。

3、权利要求2所述的氢氟酸处理装置，其中，在所述pH计的测定值 小于第一被处理水的pH值时，通过所述pH调整部关闭所述第三路径，并 向所述处理槽内的所述第一被处理水中加入所述碱性药剂。

4、权利要求2所述的氢氟酸处理装置，其中，通过所述pH计测定的 pH值为第一被处理水的pH值以上且小于第二被处理水的pH值时，在打开 所述第三路径的状态下，通过所述pH调整部向所述处理槽内的所述第一被 处理水加入所述碱性药剂。

5、权利要求2所述的氢氟酸处理装置，其中，通过所述pH计测定的 pH值为第二被处理水的pH值以上且为第三被处理水的pH值以下时，关闭 所述第三路径，所述pH调整部将所述第二被处理水贮存在所述处理槽中。

6、权利要求2所述的氢氟酸处理装置，其中，通过所述pH计测定的 pH值大于第三被处理水的pH值时，在打开所述第三路径的状态下，通过所 述pH调整部向所述处理槽内的所述第一被处理水中加入酸性溶液。

7、权利要求1所述的氢氟酸处理装置，其中，在所述第一被处理水从 循环开始经过规定时间后，通过所述pH调整部测定该第一被处理水的pH 值。

8、权利要求1或6所述的氢氟酸处理装置，其中，所述pH调整部使 用所述废水作为调整所述第一被处理水的pH的酸性溶液。

9、权利要求1或5所述的氢氟酸处理装置，其中，所述第四路径将所 述pH调整部内的所述第二被处理水全部转移到所述反应槽中。

10、权利要求1所述的氢氟酸处理装置，其中，所述第二被处理水的 pH值为8以上10以下。

11、权利要求1所述的氢氟酸处理装置，其中，所述分离槽为浸渍于所 述第二被处理水中的过滤装置。

12、权利要求11所述的氢氟酸处理装置，其中，利用形成于所述过滤 装置表面上的自生成膜来过滤所述第二被处理水。