[发明专利]热辅助磁头及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及可以进行高密度记录的热辅助磁头及其制造方法。

背景技术

伴随着硬盘装置的高记录密度化，要求薄膜磁头的性能进一步提高。作为薄膜磁头，将磁阻(MR：Magneto Resistive)效应元件等的磁检测元件和电磁线圈元件等的磁记录元件层叠的结构，即复合型薄膜磁头被广泛地应用，利用这些元件，在磁记录介质即磁盘上读写数据信号。

一般而言，磁性记录介质是所谓的磁性微粒集合而成的不连续体，各个磁性微粒成为单磁畴结构。在此，一个记录位(record bits)由多个磁性微粒构成。所以，为了提高记录密度，必须使磁性微粒变小，减少记录位的边界的凹凸。然而，如果磁性微粒变小，则伴随着体积的减小，产生磁化的热稳定性降低的问题。

磁化的热稳定性的基准由K_UV/k_BT给出。在此，K_U是磁性微粒的磁各向异性能、V是1个磁性微粒的体积、k_B是波尔茨曼常数(Boltzmann constant)、T是绝对温度。使磁性微粒变小意味着使V变小，在这种状态下K_UV/k_BT变小，有损于热稳定性。作为针对该问题的对策，考虑同时增大K_U的方法，然而，K_U的增加会导致磁性记录介质的矫顽力的增加。相对于此，由磁头进行的写入磁场强度大致由构成磁头内的磁极的软磁性材料的饱和磁通量密度决定。所以，当矫顽力超出由该写入磁场强度的界限所决定的许可值时，就不能进行写入。

作为解决如此的磁化的热稳定性的问题的方法，有人提出所谓的热辅助磁记录方式，其在使用K_U大的磁性材料的同时，通过在即将施加写入磁场之前加热磁记录介质，从而减小矫顽力，进行写入。这种方式大致可分为磁优先记录方式和光优先记录方式。在磁优先记录方式中，写入主体为电磁线圈元件，光的放射径比磁道宽度(track width)(记录宽度)大。另一方面，在光优先记录方式中，写入主体为光放射部，光的放射径与磁道宽度(记录宽度)大致相同。即，磁优先记录方式使磁场具有空间分解能，而光优先记录方式使光具有空间分解能。

下述专利文献1(特开平10-162444号公报)公开了，利用使用固体浸没透镜的磁头，在光磁盘中利用超微细的光束光斑记录超微细的磁畴信号的技术。非专利文献1(Miyanishi，S.et al.“Near-field assistedmagnetic recording”，IEEE Transactions on Magnetics，2005，Vol.41，pp.2817-2821)中公开了，使用在水晶的滑块上形成的U字型近场探针来发生近场光(evanescent light)和磁场，形成70nm左右的记录图案的技术。

专利文献2(特开2001-255254号公报)、专利文献3(特开2003-114184号公报)以及专利文献4(特开2006-185548号公报)中公开了一种热辅助磁头，其在介质相对面上配置导电性的板状近场光发生部，通过对该近场光发生部从与介质侧相反的一侧照射光来产生近场光。在近场光发生部的一端形成有尖的前端部，近场光主要从该前端部放射。

专利文献5(特开2004-158067号公报)公开了如下技术：构成近场探针的散射体被形成为，以与记录介质垂直的方式，与垂直磁记录用单磁极写入磁头的主磁极相接。该现有技术中，近场光的发生元件和垂直磁记录用单磁极写入磁头的主磁极之间的距离在线记录方向上间隔。与此同时，呈主磁极位于比近场光发生元件更靠近基板一侧的位置的结构(光照射部位于磁极的尾侧)。在此情况下，采用现有技术中的硬盘驱动中的盘回转方向，在加热介质后，加热部在盘上回转约1周后，施加磁场。这种方法是不显著恶化介质的冷却效率就不能实现的使用方法，如果考虑到写入速度，则是不现实的构造。而且，在专利文献5的构造中，可以施加的磁场的大小不是很充分，特别是非专利文献2(Jan-Ulrich Thiele et al.“Magnetic and structural properties ofFePt/FeRh exchange spring films for thermally assisted magnetic recordingmedia”，IEEE Transactions on Magnetics，2004，Vol.40，No.4，pp.2537-2542)中的具有2阶段矫顽力的温度特性的记录介质难以适用这样的磁头。