[发明专利]等离子体处理装置和方法、及用该方法处理后的被处理体

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，

该等离子体处理装置包括：

电磁波产生源，其用于产生电磁波；

电介质制的真空容器，当该真空容器的内部被施加电场并 被施加电压时，在真空容器的内表面上产生表面波，上述表面 波在该真空容器的内部空间内对等离子体点火；

电磁波引导部，其用于将上述电磁波引导到上述真空容器 的非覆盖部；

导电管，其配置在上述真空容器的长度方向的局部处的外 周部上，在该导电管与上述电磁波引导部之间因上述电磁波产 生上述电场；

气体供给部件，其用于将处理气体供给到被处理体的内部 空间中，该被处理体与上述真空容器相连接；

排气部件，其用于对上述被处理体的内部空间进行排气； 以及

电压施加部件，其与上述被处理体相连接，对上述被处理 体施加规定电压；

上述电磁波引导部具有孔部；

上述真空容器在上述孔部近旁具有未被上述导电管覆盖的 上述非覆盖部；

该等离子体处理装置利用被引导到施加有上述规定电压的 上述被处理体的内部空间中的等离子体来处理上述被处理体的 内壁面。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

上述电压施加部件与上述被处理体的外部相连接。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，

利用由上述电压施加部件施加的上述规定电压在上述被处 理体的内部空间形成衬层，使用被上述衬层引导到上述被处理 体的内部空间中的等离子体来处理上述被处理体的内壁面。

4.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，

上述真空容器是电介质制的真空管；

上述电磁波引导部与上述导电管的外周分离地配置，将上 述电磁波通过上述电磁波引导部与上述导电管之间的空间引导 到上述非覆盖部。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中，

该等离子体处理装置还包括将上述电磁波自上述电磁波产 生源引导到上述电磁波引导部中的波导管；

上述真空管自上述波导管的内部朝向外部而沿与上述电磁 波的来向正交的方向延伸，在上述波导管内被上述导电管覆盖；

上述电磁波引导部具有自上述波导管的侧壁部向上述真空 管的延伸方向突出的突出部；

上述真空管具有在上述突出部内未被上述导电管覆盖的上 述非覆盖部，在上述非覆盖部的内部空间中施加有产生于上述 导电管与上述电磁波引导部之间的电场。

6.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其中，

该等离子体处理装置还包括将电磁波自上述电磁波产生源 引导到上述电磁波引导部中的波导管；

上述真空管沿与上述电磁波的来向正交的方向贯穿上述波 导管的内部，在上述波导管内被上述导电管覆盖；

上述电磁波引导部具有自上述波导管的侧壁部向上述真空 管的贯穿方向突出的突出部；

上述真空管具有在上述突出部内未被上述导电管覆盖的上 述非覆盖部，在上述非覆盖部的内部空间中施加有产生于上述 导电管与上述电磁波引导部之间的电场。

7.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，

上述电压施加部件对上述被处理体施加脉冲电压作为上述 规定电压。

8.根据权利要求7所述的等离子体处理装置，其中，

该等离子体处理装置还包括与上述电压施加部件和上述电 磁波产生源相连接的同步电路；

自上述电压施加部件施加给上述被处理体的上述脉冲电压 的频率与在上述电磁波产生源产生的电磁波的频率相同，且利 用上述同步电路获取同步。

9.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，

上述被处理体是不锈钢制。

10.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，

上述被处理体配置在大气气氛中。