[发明专利]研磨用组合物无效
| 申请号： | 200810189523.X | 申请日： | 2008-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN101469252A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 平野达彦;水野博史;梅田刚宏 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
1.研磨用组合物，其特征在于，含有
(a)磨料；
(b)加工促进剂；
(c)表面缩穴抑制剂；和
(d)水而成，
上述磨料至少包含第一磨料和第二磨料，上述第二磨料的平均一次粒径DL1相对于上述第一磨料的平均一次粒径DS1的比例DL1/DS1为5>DL1/DS1>1，且上述第一磨料的缔合度为1.8以上且5以下，上述第二磨料的缔合度为2.5以下。
2.如权利要求1所述的研磨用组合物，其中，相对于上述磨料(a)的总重量，上述第一磨料的重量比为0.6以上且小于1。
3.如权利要求1或者2所述的研磨用组合物，其中，上述第一磨料的平均一次粒径为5nm以上且小于40nm。
4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其中，还含有氧化剂(e)。
5.如权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物，其中，上述表面缩穴抑制剂(c)选自苯并三唑和其衍生物。
6.如权利要求1～4中任一项所述的研磨用组合物，其中，上述表面缩穴抑制剂(c)选自非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂，所述非离子表面活性剂用
R-POA (I)
表示，式中，R表示烷基，POA表示选自聚氧乙烯链、聚氧丙烯链和聚(氧化乙烯-氧化丙烯)链的聚氧化烯链；
所述阴离子表面活性剂用
R’-A (IIa)和
R’-POA’-A (IIb)
表示，式中，R’表示选自烷基、烷基苯基和烯基的基团，POA’表示选自聚氧乙烯链、聚氧丙烯链和聚(氧化乙烯-氧化丙烯)链的聚氧化烯链，A表示阴离子性官能团。
7.如权利要求1～6中任一项所述的研磨用组合物，其中，上述加工促进剂(b)选自羧酸和氨基酸的至少一种。
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