[发明专利]研磨用组合物有效
| 申请号： | 200810189530.X | 申请日： | 2008-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN101469253A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | 平野达彦;水野博史;大和泰之;安井晃仁 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 组合 | ||
1.研磨用组合物，其特征在于，含有
(a)磨料；
(b)加工促进剂；
(c)用R-POE(I)表示且HLB为7～12的至少1种的非离子表面活 性剂，式中，R表示具有支链结构的碳原子数为10～16的烷基，POE 表示聚氧乙烯链，以研磨用组合物的总重量为基准时，非离子表面活 性剂的含量为0.0005～0.5重量％；
(d)至少1种的阴离子表面活性剂，以研磨用组合物的总重量为基 准时，阴离子表面活性剂的含量为0.0005～0.1重量％；
(e)与上述非离子表面活性剂和上述阴离子表面活性剂不同的保护 膜形成剂；
(f)氧化剂；和
(g)水而成，
所述阴离子表面活性剂是用下式(IIa)或者(IIb)表示的阴离子表面 活性剂，
R’-A(IIa)
R’-POA-A(IIb)
式中、R’表示选自烷基、烷基苯基、和烯基的基团，POA表示选 自聚氧乙烯链、聚氧丙烯链和聚(氧化乙烯·氧化丙烯)链的聚氧化烯链， A表示阴离子性官能团。
2.如权利要求1所述的研磨用组合物，其中，上述保护膜形成剂 (e)选自苯并三唑和其衍生物。
3.如权利要求2所述的研磨用组合物，其中，上述保护膜形成剂 (e)是1-[二(2-羟基乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并三唑、或者1-[二(2-羟基 乙基)氨基甲基]-5-甲基苯并三唑。
4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其中，上述 磨料的平均1次粒径为5～40nm。
5.如权利要求1～3中任一项所述的研磨用组合物，其中，上述 加工促进剂(b)是选自羧酸和氨基酸的至少1种。
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