[发明专利]与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物

权利要求书

1.一种经涂覆的底材，包括：

一种含有有机硅树脂的涂料组合物层；和

一种位于该涂料组合物层上的光刻胶组合物层；

其中，所述有机硅树脂可以通过含硅化合物反应获得，所述含硅化合物具 有一个或更多用至少两个或多个碳或杂原子与最邻近的硅原子或芳香族残基 隔离的硅原子。

2.如权利要求1所述的底材，其特征在于，所述有机硅树脂含有苯基。

3.如权利要求1所述的底材，其特征在于，所述含硅化合物符合式芳基 (CH₂)_2-8Si(OC_1-8烷基)₃或(OC_1-8烷基)₃Si(CH₂)_2-8Si(OC_1-8烷基)₃。

4.如权利要求1所述的底材，其特征在于，所述光刻胶组合物是化学增强 型正性光刻胶组合物。

5.一种形成光刻胶浮雕像的方法，包括：

在底材上涂覆涂料组合物层，该涂料组合物含有有机硅树脂，其中有机硅 树脂可以通过含硅化合物反应获得，所述的含硅化合物具有一个或更多用至少 两个或多个碳或杂原子与最邻近的硅原子或芳香族残基隔离的硅原子；

在该涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物；和

曝光并显影光刻胶层以提供光刻胶浮雕像。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述有机硅树脂含有苯基。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述含硅化合物符合式芳基 (CH₂)_2-8Si(OC_1-8烷基)₃或(OC_1-8烷基)₃Si(CH₂)_2-8Si(OC_1-8烷基)₃。

8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述涂料组合物由包含羟基的 溶剂配制。

9.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述光刻胶组合物是化学增强 型正性光刻胶组合物。

10.一种与外涂光刻胶组合物一起使用的可交联抗反射组合物，所述抗反 射组合物包括一种有机硅树脂，其中有机硅树脂可以通过含硅化合物反应获 得，所述含硅化合物具有一个或更多用至少两个或多个碳或杂原子与最邻近的 硅原子或芳香族残基隔离的硅原子。