[发明专利]水处理系统无效
申请号: | 200810190211.0 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101468822A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 阿部法光;村山清一;出健志;森川彰;环省二郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蔡洪贵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水处理 系统 | ||
1.一种用于从原水,例如河水、湖水和地下水,生产自来水或工业用水的水处理系统,包括:
储存原水的原水箱;
过滤膜模块,所述过滤膜模块从原水箱接收原水,且具有用于从原水中分离和去除异物的过滤膜;
供给泵,所述供给泵设置在原水箱与分离膜模块之间,且将原水从原水箱供给到分离膜模块;
已过滤水箱,所述已过滤水箱接收和暂时储存被传递通过过滤膜模块的过滤膜的已过滤水,且传送出上层水作为被处理的水;
回洗泵,所述回洗泵设置在已过滤水箱与过滤膜模块之间,且使已过滤水从已过滤水箱回流到过滤膜模块;
阀和通道,所述阀和通道设置在已过滤水箱与过滤膜模块之间,且使水流方向在正向和反向之间切换;
控制装置,所述控制装置用于暂停从原水箱到过滤膜模块的原水供给、将阀和通道切换到反向、使回洗泵将已过滤水从已过滤水箱供给到过滤膜模块,从而回洗过滤膜;以及
清洗排放物处理装置,所述清洗排放物处理装置设置在过滤膜模块与原水箱之间,用于处理回洗过滤膜产生的回洗排放物并使水返回到原水箱。
2.如权利要求1所述的水处理系统,其特征在于,清洗排放物处理装置具有絮凝箱、沉淀器以及紫外线辐射反应器。
3.如权利要求2所述的水处理系统,其特征在于,紫外线辐射反应器包括紫外线灯,所述紫外线灯发射包括253.7nm的波长的紫外线。
4.如权利要求3所述的水处理系统,其特征在于,紫外线灯容纳在由石英玻璃构成的保护管中,用于使灯的周边与外部流体隔离和保护灯的周边免受外部流体。
5.如权利要求1所述的水处理系统,其特征在于,清洗排放物处理装置具有旋流式固体-液体分离装置和紫外线辐射反应器。
6.如权利要求1所述的水处理系统,其特征在于,清洗排放物处理装置具有旋流式紫外线辐射反应器。
7.如权利要求1所述的水处理系统,其特征在于,清洗排放物处理装置具有旋流式紫外线辐射反应器和第二紫外线辐射反应器。
8.如权利要求4所述的水处理系统,其特征在于,紫外线辐射反应器具有清洁装置,所述清洁装置用于清洁紫外线灯保护管的外表面。
9.如权利要求5所述的水处理系统,其特征在于,所述水处理系统具有清洗排放物处理装置清洗管路,所述清洗排放物处理装置清洗管路从回洗泵的喷射侧的管路分叉,并与清洗排放物处理装置中的旋流式紫外线辐射反应器的流入管路会合,从而绕过过滤膜模块。
10.如权利要求1所述的水处理系统,其特征在于,在过滤膜的回洗之后,在膜过滤操作的过程中,控制装置对清洗排放物处理装置的清洗时间控制至少一次。
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