[发明专利]显影装置和调色剂盒有效
申请号: | 200810190624.9 | 申请日: | 2007-02-13 |
公开(公告)号: | CN101441427A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 佐藤正吾 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/08 | 分类号: | G03G15/08 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 吴龙瑛;张黎明 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影 装置 调色 | ||
本申请为下述申请的分案申请:
原申请的申请日:2007年2月13日
原申请的申请号:200710084047.0
原申请的发明名称:显影装置和调色剂盒
相关申请的交叉引用
本申请要求享有2006年2月13日提交的日本专利申请2006-035443的优先权,其内 容在此通过引用结合于本申请中。
技术领域
本发明涉及一种用调色剂使感光体上形成的静电潜像显影的技术。具体来说,本发明 涉及一种容纳调色剂的调色剂盒以及该调色剂盒所要附接的显影装置。
背景技术
具有感光体的图像形成装置(例如激光打印机)使用显影装置。有一调色剂盒附接于 该显影装置。标准的显影装置包括壳体、供应辊、以及显影辊。该壳体具有用于容纳调色 剂盒的空间以及与此空间相通的显影腔。供应辊和显影辊各自具有沿水平方向延伸的转 轴。供应辊容纳于显影腔内。供应辊对显影辊供应送至显影腔的调色剂。显影辊承载供应 辊所供应的调色剂。
显影辊与感光体相接触。有静电潜像形成于感光体表面上。显影辊对该感光体供应调 色剂。调色剂将附着于感光体上的静电潜像部分。这样便会使感光体上的静电潜像显影。
日本特开平9-319202号公报披露了一例显影装置。此技术中,调色剂在显影装置和调 色剂盒两者间循环。有两个侧壁开口形成于界定显影装置其显影腔的侧壁上。两个侧壁开 口在水平方向上偏置并处于同一高度。此外,有两个壳体开口形成于调色剂盒上。两个壳 体开口在水平方向上偏置并处于同一高度。
当调色剂盒附接于显影装置时,其中之一壳体开口和其中之一侧壁开口互相面对,而 其中另一壳体开口和其中另一侧壁开口也互相面对。这样调色剂盒和显影腔互相连通。调 色剂盒内的调色剂经由其中之一壳体开口和其中之一侧壁开口送至显影腔。有一螺旋输送 器设置于显影装置中。该螺旋输送器将显影腔内的调色剂从其中之一侧壁开口输送至其中 另一侧壁开口。显影腔内的调色剂经由其中另一侧壁开口和其中另一壳体开口返回至调色 剂盒。
按照此技术,调色剂在显影装置和调色剂盒两者间循环。通过使调色剂循环,可防止 低质调色剂在显影腔内发生滞留和累积。此外,可以使新调色剂均匀地附着于整个供应辊 上。
发明内容
显影腔内的调色剂并不处于密实充满状态时,就无法以合适的厚度均匀地附着于显影 辊上。这种现象不仅在显影腔内的调色剂并非由供应辊供应、而是直接供应至显影辊的情 况下发生,而且在显影腔内的调色剂经由供应辊供应至显影辊的情况下也会发生。这是因 为调色剂无法均匀附着于供应辊上会对显影辊造成影响。
为了增加显影腔内调色剂的密度,调色剂必须从较高的位置送至显影腔中。前面提及 的常规技术中,两个侧壁开口将处于相同的高度。两侧壁开口配置于较高位置的话,可提 高显影腔内调色剂的密度。但该配置下,用于将调色剂从显影腔送至调色剂盒的其中另一 侧壁开口同样处于较高位置。当该其中另一侧壁开口置于较高位置时,会使调色剂难于从 显影腔返回至调色剂盒。但两侧壁开口配置于较低位置的话,虽可将调色剂顺利地从显影 腔送至调色剂盒,但显影腔内调色剂的密度会降低。
前面提及的常规技术中,调色剂既无法以适当的厚度均匀附着于显影辊上,也无法顺 利地循环。
本发明考虑到前面提及的事实,而提供一种既使得调色剂以适当的厚度均匀附着于显 影辊上,也使调色剂顺利循环的技术。
本发明提供一种可附接调色剂盒的显影装置。该显影装置包括:显影辊,该显影辊包 括沿水平方向延伸的转轴,且该显影辊可承载调色剂;第一壳体,该第一壳体包括用于容 纳由显影辊所承载的调色剂的显影腔、将调色剂从调色剂盒输送至所述显影腔的第一馈送 口、以及用于使调色剂从所述显影腔回流至所述调色剂盒的第一回流口,其中,所述显影 腔由所述显影辊所界定;以及第一输送构件,该第一输送构件位于所述显影腔内,并且该 第一输送构件将所述显影腔内的调色剂从所述第一馈送口输送至所述第一回流口,其中, 所述第一馈送口和所述第一回流口沿水平方向偏置,所述第一馈送口位于高于所述第一回 流口的位置。
“沿水平方向延伸”、“沿水平方向偏置”、以及“位于较高位置”意味着显影装置进 行显影的状态。当不使用该显影装置时,显影辊的转轴无需沿水平方向延伸。此外,第一 馈送口和第一回流口无需沿水平方向偏置,第一馈送口无需位于高于第一回流口的位置。
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