[发明专利]粘结的促进

权利要求书

1、一种方法，包括：

a)提供一种组合物，该组合物包括一种或多种无机酸，一种或多种杂环氮化 合物；和

b)将上述组合物施加于镍或镍合金层以刻蚀所述层。

2、如权利要求1所述的方法，进一步包括阳极刻蚀镍或镍合金的步骤。

3、如权利要求1所述的方法，其中杂环氮化合物选自噻唑和硫醇。

4、如权利要求3所述的方法，其中硫醇选自巯三唑和巯四唑。

5、如权利要求1所述的方法，其中巯三唑的化学式为：

其中，M是H、NH₄、Na或K；R₁和R₂各自独立地为取代或不取代的(C₁-C₁₈) 烷基、或者取代或不取代的(C₆-C₁₀)芳基。

6、如权利要求1所述的方法，其中巯四唑的化学式为：

其中，M是H、NH₄、Na或K；R₃为取代或不取代的(C₁-C₂₀)烷基、或者取 代或不取代的(C₆-C₁₀)芳基。

7、如权利要求1所述的方法，其中噻唑的化学式为：

其中，R₄、R₅和R₆相同或不同，为H、取代或不取代的(C₁-C₂₀)烷基、取代 或不取代的苯基、卤素、氨基、烷氨基、二烷氨基、羟基、烷氧基、羧基、羧 烷基、烷氧羰基、氨羰基、和R₇-CONH-，其中R₇为H、取代或不取代的(C₁-C₂₀) 烷基、取代或不取代的苯基；以及R₄、R₅和R₆可以为稠合到噻唑环上的同素环 或杂环的一部分。

8、如权利要求1所述的方法，进一步包括在刻蚀后的镍或镍合金层上沉积 一种或多种贵金属。

9、如权利要求8所述的方法，其中一种或多种贵金属选择性地沉积在刻蚀 后的镍或镍合金层上。

10、如权利要求1所述的方法，其中刻蚀后的镍或镍合金层被封装在绝缘 体内。