[发明专利]光刻设备以及器件制造方法

权利要求书

1.一种用于控制物体位置或位置相关量的控制系统，包括：

测量系统，配置用于测量该物体的位置或位置相关量；

控制器，配置用于基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号；

致动器，配置用于基于该控制信号驱动该物体；以及

滤波器单元，配置用于对所测量的位置或位置相关量进行滤波，其中 该滤波器单元是不完整阶滤波器单元。

2.如权利要求1所述的控制系统，其中该不完整阶滤波器单元是半阶 滤波器单元。

3.如权利要求1所述的控制系统，其中该控制器包括积分器控制单元。

4.如权利要求1所述的控制系统，其中该不完整阶滤波器单元包括表 示不完整阶的有理传递函数。

5.如权利要求4所述的控制系统，其中该系统是基于四阶传递函数的。

6.如权利要求1所述的控制系统，其中该控制系统是主动阻尼系统。

7.如权利要求1所述的控制系统，其中该致动器布置在该物体和反作 用质量块之间，该反作用质量块仅机械地连接到该致动器。

8.如权利要求1所述的控制系统，其中该滤波器单元是低通滤波器。

9.如权利要求1所述的控制系统，其中该物体是光刻设备的投影系统。

10.一种光刻设备，包括：

照射系统，构造为调节辐射束；

图案形成装置，能将图案在该辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成 图案化的辐射束；

衬底台，构造为保持衬底；

投影系统，构造为将该图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以 及

根据权利要求1所述的控制系统，用于控制该光刻设备的物体的位置或 位置相关量，其中该控制系统包括不完整阶滤波器单元。

11.如权利要求10所述的光刻设备，其中该控制系统是主动阻尼系统。

12.如权利要求11所述的光刻设备，其中该物体是投影系统。

13.如权利要求10所述的光刻设备，其中该不完整阶滤波器单元是低 通滤波器单元。

14.如权利要求10所述的光刻设备，其中该不完整阶滤波器单元是半 阶滤波器单元。

15.如权利要求10所述的光刻设备，其中该不完整阶滤波器单元包括 表示不完整阶的有理传递函数。

16.一种器件制造方法，包括步骤：

图案化辐射束，以形成图案化的辐射束；

利用投影系统将该图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；并且

控制该投影系统的位置或位置相关量，该控制步骤包括：

测量该投影系统的位置或位置相关量；

基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号；

基于该控制信号向该投影系统施加力；并且

由滤波器单元对与所测量的位置或位置相关量相关联的信号进行滤 波，其中该滤波器单元是不完整阶滤波器单元。