[发明专利]电路影像转移制程无效

专利信息
申请号: 200810192902.4 申请日: 2008-12-29
公开(公告)号: CN101770183A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 简祯祈 申请(专利权)人: 大量科技股份有限公司
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电路 影像 转移
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种影像转移制程,尤指利用喷墨方式进行电路影像转移的制程。

背景技术

在印刷电路板或半导体制程中,为了蚀刻出所要的线路,会采用底片影像转移技术,来进行线路的制作,其步骤如下:

1、在欲蚀刻物表面涂上光阻剂或干膜。

2、以光罩或底片加在光阻剂之上。(注:有的就在光阻剂上,有的则是有点距离,只是为取得投影光罩或底片上印的图案,有印的区域光线无法透过;透明的部分光线则可透过)

3、以紫外线照射,使紫外线只可透过光罩或底片上透明的部分,而光阻剂被紫外线照到的部分会变硬。

4、采用化学药品将软的光阻剂洗去,而硬的光阻剂会留下来。

5、以化学药品对欲蚀刻表面进行蚀刻,有硬的光阻剂保护的部分,不会被蚀刻;没有光阻剂保护的部分就会被蚀掉。

6、再以另一种化学品洗去硬的光阻剂。

然而,此种作法为具有下列缺失:

(一)光阻剂必须涂部整个欲蚀刻物的表面,而浪费了非常多的光阻剂,造成成本的增加,且因光阻剂为一种化学药剂,所以其所产生的废弃物会造成环境污染,而必须再经过一道废弃物处理过程,造成整体的成本上升。

(二)在进行线路的制作时,必须预先制作光罩或底片,造成整体制程所需的时间增加,不利于小量生产或打样,且光罩与底片也会增加成本,而失去竞争优势。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种电路影像转移制程,其降低电路影像转移制程所需的成本,以及简化制程,而可有效提高产业的竞争力。

为达上述目的,本发明是以喷墨方式将光阻剂喷涂于基板的铜箔层表面,使光阻剂形成电路影像,再利用雷射修整电路影像边缘,以使基板可进行后续蚀刻作业。

本发明的有益效果在于:

1.可减少制程中产生的废弃物,降低环境污染以及废弃物处理所需的成本。

2.可降低制程所需的成本,以及简化制程。

附图说明

图1为本发明的制作流程示意图;

图2为本发明在喷涂光阻剂后边圆产生波浪纹的示意图;

图3为本发明在去除波浪纹时的流程示意图。

附图标记说明:1-基板;2-铜箔层;3-光阻剂;4-雷射。

具体实施方式

以下结合附图,对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。

请参阅图1所示,由图中可清楚看出,本发明是在欲进行蚀刻作业的基板1表面铜箔层2上,以喷墨方式将光阻剂3喷涂于铜箔层2表面,使光阻剂3形成电路影像,且此光阻剂3所形成的电路影像,是由使用者所输入至电脑内的图形,而由电脑控制喷头喷涂所形成,且因光阻剂3利用喷墨方式喷涂,喷墨方式会因为解析度不同而影响喷涂速度与图形精度,墨点本身尺寸也有约10%的涨缩空间,所以在光阻剂3的电路影像边缘会产生不平整的波浪纹(如图2所示)。

此外,由于墨点的大小限制,一些特殊线宽无法一次精准的喷涂完成,必须来回喷涂,因此,在电路影像形成后,续利用雷射4修整电路影像的边缘(如图3所示),使其电路影像的边缘可变为平整,然而,由于光阻剂3与铜箔层2对雷射4的吸收有不同,因此,可调整雷射4的功率或更换种类,使其可将光阻剂3移除,且不会破坏铜箔层2表面。

由上,即可接续进行后续的蚀刻作业,以化学药品对铜箔层2表面进行蚀刻,而有光阻剂3保护的铜箔层2部分不会被蚀刻,没有光阻剂3保护的铜箔层2部分就会被蚀刻掉,以使基板1上的铜箔层2形成使用者所需的电路。

再者,所述基板1可为印刷电路基板或半导体基板。

因此,本发明为可解决现有技术的不足与缺失乃在于:

(一)利用喷墨方式喷涂光阻剂3,以可节省非常多的光阻剂3用量,进而可降低成本以及简化制程,且可减少制程中产生的废弃物,降低环境污染以及废弃物处理所需的成本。

(二)利用喷墨方式喷涂光阻剂3,可节省现有技术中底片的制作,尤其对于小量制作(打样),可非常快速,以有效提高产业的竞争力。

以上说明对本发明而言只是说明性的,而非限制性的,本领域普通技术人员理解,在不脱离以下所附权利要求所限定的精神和范围的情况下,可做出许多修改,变化,或等效,但都将落入本发明的保护范围内。

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