[发明专利]一种化学机械抛光制程、双氧水的用途和清洗方法

权利要求书

1、一种化学机械抛光制程，包括采用含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种的抛光浆料进行化学机械抛光及其后的清洗步骤，其特征在于，该清洗步骤中所用的清洗液为双氧水水溶液。

2、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的双氧水水溶液的浓度为0.01wt％～30wt％。

3、根据权利要求2所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的双氧水水溶液的浓度为0.02wt％～15wt％。

4、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的双氧水水溶液的pH值≤6.0。

5、根据权利要求4所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的双氧水水溶液的pH值≤4.0。

6、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的高锰酸可溶性盐选自高锰酸钠，高锰酸钾和高锰酸铵。

7、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的锰酸可溶性盐选自锰酸钠，锰酸钾和锰酸铵。

8、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种在抛光浆料中的浓度为0.001～5wt％。

9、根据权利要求8所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种在抛光浆料中的浓度为0.002～1wt％。

10、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的抛光浆料进行化学机械抛光时，抛光浆料的包装和混合方法采用本领域常规的预混合槽混合法，即通过两个不同的管道将高锰酸，锰酸及其可溶盐与抛光浆料的其它的组分，主要包括研磨颗粒和载体，在管道中混合后滴向抛光垫。

11、根据权利要求10所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的预混合槽混合法进行化学机械抛光后，对预混合槽和浆料输送管道的清洗，包括以下步骤：采用所述的双氧水水溶液浸泡0.5-30分钟，然后以50-200ml/min的流速循环清洗0.5-30分钟，最后用去离子水洗以50-200ml/min的流速循环清洗0.5-30分钟3次。

12、根据权利要求1所述的化学机械抛光制程，其特征在于，所述的清洗步骤中，抛光垫、“抛光垫活化盘”、抛光头和被抛光的材料的清洗同时完成，包括以下步骤：所述的双氧水水溶液以流速50-200mL/min滴在抛光垫上轻抛光5-60秒，最后用流速100-200mL/min的去离子水冲洗抛光垫10-60秒。

13、双氧水在采用含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种的抛光浆料的化学机械抛光后的清洗中的用途。

14、一种在化学机械抛光中与抛光浆料接触的抛光部件及被抛光材料的清洗方法，该抛光浆料含有选自高锰酸及其可溶性盐和锰酸及其可溶性盐中的一种或几种，其特征在于，包括以下步骤：用双氧水水溶液作为清洗液进行清洗。