[发明专利]一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜的方法无效
| 申请号： | 200810201271.8 | 申请日： | 2008-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101381472A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 何品刚;惠飞;方禹之 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学 |
| 主分类号： | C08J9/00 | 分类号： | C08J9/00;C08L79/04;C08G73/06 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程宗德;石 昭 |
| 地址： | 20024*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 气泡 模板 制备 多孔 吡咯 薄膜 方法 | ||
1.一种以纳米气泡为模板制备纳米多孔聚吡咯薄膜(4)的方法，其特征在于，具体操作步骤：
第一步电化学产生纳米氢气气泡(2)
电化学过程采用三电极系统，以HOPG为工作电极(1)、铂丝为对电极和参比电极，工作电极(1)兼作产生纳米气泡的基底电极，HOPG是高定向热解石墨，该三电极系统浸没在每升含0.01mol硫酸和1mmol吡咯的溶液中，工作电极(1)上加有电压，该电压介于-1.2V～-2.0V之间，反应时间介于2s～10s之间，工作电极(1)的表面产生纳米氢气气泡(2)，纳米氢气气泡(2)依附在工作电极(1)的表面，利用原子力显微镜在溶液中原位观察纳米氢气气泡(2)的大小和分布，纳米氢气气泡(2)的横向尺寸介于25nm～1600nm之间，纳米氢气气泡(2)的数量和大小都与所加电压的大小和反应时间有关，加较低电压和反应较长时间产生的气泡数量较少和尺寸较大，与此相反，加较高电压和反应较短时间产生的气泡数量较多尺寸和尺寸较小；
第二步以纳米氢气气泡(2)作为模板，电化学制备纳米多孔聚吡咯薄膜(4)
以依附在工作电极(1)的表面上的纳米氢气气泡(2)作为模板，在0.5V～0.7V的电压范围内采用循环伏安法电化学聚合吡咯，扫描速度为100mV·s-1，聚吡咯薄膜(3)依附在工作电极(1)的表面上，聚合完成后将工作电极(1)从溶液中取出，洗净，氮气吹干，纳米氢气气泡(2)自动从聚吡咯薄膜(3)中逸出，得到纳米多孔聚吡咯膜(4)。
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