[发明专利]一种带位阻联芳基化合物的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810202124.2 申请日: 2008-11-03
公开(公告)号: CN101402536A 公开(公告)日: 2009-04-08
发明(设计)人: 高国华;张展;冀海英;付贤磊;杨榆 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: C07B37/00 分类号: C07B37/00;C07C1/32;C07C15/14;C07C13/567;C07C255/50;C07D333/08
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 代理人: 程宗德
地址: 20024*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 带位阻联 芳基化 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种带位阻联芳基化合物的制备方法,具体说是利用双Suzuki交叉偶联反应制备带位阻联芳基化合物的方法,属于化学制备技术领域。

背景技术

联芳基化合物在医药、液晶材料、发光器件中具有广泛的应用(Chem.Rev,2006,106,2651-2710)。其制备主要通过Suzuki偶联、Kharash偶联、Negishi偶联、Stille偶联,Himaya偶联、Liebeskind-Srogl偶联、Kumuda偶联等反应,其中Suzuki交叉偶联反应因其反应条件温和、可适用多种官能团、芳基硼酸毒性低、产率高等优点而得到广泛应用(Tetrahedron,2002,58,9633-9695)。在专利CN101050157A中报道了一种利用Suzuki交叉偶联反应制备联苯类化合物的方法。在专利CN101182310A中报道了一种利用Suzuki交叉偶联反应制备联苯基取代的吡啶类化合物的方法。

近年来Suzuki交叉偶联反应发展迅速,在基础研究以及应用方面都取得了较大的突破.然而,当反应物分子具有较大空间位阻时,反应往往很难进行。尤其是当芳基硼酸具有较大空间位阻时,由于其空间位阻效应以及更容易发生质子化脱硼作用而使得反应更加困难。最近,高位阻的Suzuki交叉偶联反应也取得了一定进展,如文献(Inorganica Chimica Acta,2006,359,1947-1954;Organometallics,2005,24,353-357;J.Am.Chem.Soc.2005,127,4685-4696;Tetrahedron Lett.2001,42,6667-6670;Org.Lett.2005,7,3721-3724)。然而,这些报道的方法都存在采用较复杂且非商业化的催化剂及配体,反应所需时间较长,反应温度较高或收率较低等不足。现有技术中未涉及如本发明所示的在Pd(PPh3)4作为催化剂、KOtBu作为碱的条件下,利用高位阻双Suzuki交叉偶联反应制备带位阻联芳基化合物的方法。

发明内容

本发明目的在于,提供了一种利用双Suzuki交叉偶联反应的制备带位阻联芳基化合物的方便高效方法。

本发明制备的带位阻联芳基化合物具有通式(I)所示结构。

通式(I)中:

R选自:H,C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、腈基或醛基。

Ar选自:苯基、取代苯基,噻吩,取代噻吩、吡啶、取代吡啶等。

通式(I)中,取代苯基选自:C1-C6烷基取代苯基、C1-C6烷氧基取代苯基、腈基苯基、醛基苯基、氟代苯基或氯代苯基。

取代噻吩选自:C1-C6烷基取代噻吩、C1-C6烷氧基取代噻吩、腈基噻吩、醛基噻吩、氟代噻吩或氯代噻吩。

取代吡啶选自:C1-C6烷基取代吡啶、C1-C6烷氧基取代吡啶、腈基吡啶、醛基吡啶、氟代吡啶或氯代吡啶。

在通式(I)中所指的烷基包括直链或支链烷基。烷氧基包括直链或支链烷氧基。

本发明中通式(I)所示结构化合物制备方法如下:

主要步骤:将摩尔比为(100∶1)~(10∶1)的二卤代芳基化合物和钯催化剂溶于DMF、DME/H2O或DME/tBuOH中,加热使其成为均相体系,然后依次滴加的芳基硼酸和碱,其中芳基硼酸与二卤代芳基化合物的摩尔比为(2~5)∶1;碱为碳酸钾、磷酸钾、氢氧化钡,碳酸铯或叔丁醇钾,且与二卤代芳基化合物的摩尔比为(3~8)∶1;在60℃至沸点之间充分反应,自然冷却至室温,加入水(10mL)稀释,乙酸乙酯(10mL×3)萃取。合并有机相,用饱和食盐水洗涤,无水硫酸镁干燥,旋转蒸发除去溶剂,最后利用柱层析分离得到带位阻联芳基化合物(I)。

本发明提供的带位阻联芳基化合物的制备方法中的二卤代芳基化合物为二碘代芳基化合物或者二溴代芳基化合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学,未经华东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810202124.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top