[发明专利]一种两亲性嵌段共聚物及其聚集体材料及制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 200810203338.1 申请日: 2008-11-25
公开(公告)号: CN101434684A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 俞燕蕾;林里;冯泽;颜曾;颜竹君 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C08F293/00 分类号: C08F293/00;C08F220/34;C08F220/10;C08F212/14;C08F226/06;C08J3/07;C08L53/00
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所 代理人: 翟 羽;何兴元
地址: 200433*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 两亲性嵌段 共聚物 及其 聚集体 材料 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种两亲性嵌段共聚物,它的化学通式为:

其中R是H,或者是CH3;其中R1是H,或者是C1~C18的取代或未取代的 烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍生物;R2是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍 生物;R3是C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的, 烷氧基、烷硫基、烷氨基、二烷氨基、烷酰基、烷酰氧基、烷酰胺基或烷磺酰 基,或上述基团的衍生物;R4是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烃基,所 述的烃基是饱和的或者不饱和的,或烷氧基或是具有极性的端基;R5选自下述 基团中的一种:及X是卤素原子Br或Cl;其中n为 20-500,i为10-100,j为1-100。

2.如权利要求1所述的两亲性嵌段共聚物,其特征在于,R3是C1~C12的取 代或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,或烷氧基,或者R3在 (a)式中不出现。

3.如权利要求1所述的两亲性嵌段共聚物,其特征在于,当R4是具有极性 的端基时,选自氰基、异氰基、羟基、卤素、酯基、羧基、硝基、酰胺基、氨 基、取代氨基及吡啶基中的一种。

4.如权利要求3所述的两亲性嵌段共聚物,其特征在于,当R4是具有极性 的端基时,选自氰基、异氰基、羟基、卤素、酯基、羧基、硝基、酰胺基、氨 基、取代氨基及吡啶基中能与酸或碱进行反应的基团。

5.一种制备如权利要求1-4任意一项所述的两亲性嵌段共聚物的方法,其 包含如下步骤:

(1)首先合成大分子引发剂(d),大分子引发剂(d)是由含有一个或两个端羟 基的聚氧化乙烯衍生物(b)与卤化试剂(c)通过有机反应得到的,所述的卤化试剂 (c)是有机的试剂,该反应的方程式为:

在上述化合物中,其中R1是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烃基,所 述的烃基是饱和的或者不饱和的,或上述烃基的衍生物;X是卤素原子Br或Cl; n为20-500;

(2)其次,以含有光响应基团的单体(e)和含有pH敏感性基团的单体(f)为原 料,然后再与适当比例的大分子引发剂(d)、一定量的过渡金属卤化物及配体组 成的催化剂,并选择合适的反应溶剂、反应温度和反应时间,用ATRP的方法 得到两亲性嵌段共聚物,其反应的方程式为:

在上述化合物中,其中R是H,或者是CH3;R3是碳原子数C1~C18的取代 或未取代的烃基,所述的烃基是饱和的或者不饱和的,烷氧基、烷硫基、烷氨 基、二烷氨基、烷酰基、烷酰氧基、烷酰胺基或烷磺酰基,或上述基团的衍生 物;R4是H,或者是碳原子数C1~C18的取代或未取代的烃基,所述的烃基是饱 和的或者不饱和的,或烷氧基或是具有极性的端基;i为10100,j为10-100; 所述的过渡金属卤化物选自铬Cr、铁Fe、镍Ni、铜Cu、钼Mo、钌Ru、铑Rh、 钯Pd、铼Re或铱Ir卤化物中的一种或者几种;所述配体选自含磷或氮的有机 物中的一种或者几种;在(2)的反应过程中,所述大分子引发剂(d)和两类单体(e、 f)摩尔比为1∶10-1∶1000;所述的过渡金属卤化物与大分子引发剂(d)的摩尔比为 20∶1-1∶20;所述的配体与过渡金属卤化物摩尔比为20∶1-1∶20;所述反应时间 在0.5h-200h,反应温度在25℃-250℃;所述反应溶剂选自极性或非极性的 有机溶剂中一种或者几种混合;所述单体(f)选自下述化合物中的一种:

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