[发明专利]一种化学机械抛光液无效
申请号: | 200810204101.5 | 申请日: | 2008-12-05 |
公开(公告)号: | CN101747841A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
发明(设计)人: | 宋伟红;姚颖 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液,其含有二聚哑铃形和/或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒和水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的二聚哑铃形或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒的粒径大小为10~150nm。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的二聚哑铃形或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒的粒径大小为20~100nm。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的二聚哑铃形或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒的粒径大小为30~100nm。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的二聚哑铃形和/或多聚链形二氧化硅溶胶研磨颗粒的含量为1~20%,百分比为质量百分比。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的化学机械抛光液还含有表面活性剂、氧化剂、成膜剂和螯合剂中的一种或多种。
7.如权利要求6所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的化学机械抛光液还含有表面活性剂,或还含有表面活性剂、氧化剂、成膜剂和螯合剂。
8.如权利要求6或7所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的表面活性剂为阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、两性表面活性剂和非离子型表面活性剂中的一种或多种;所述的氧化剂为过氧化物、过硫化物和硝酸铵中的一种或多种;所述的成膜剂为唑类有机物;所述的螯合剂为有机膦、含氮杂环类、有机胺类和水溶性羧酸类聚合物中的一种或多种。
9.如权利要求8所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的唑类有机物为苯并三氮唑及其衍生物,以及四唑及其衍生物中的一种或多种;所述的有机膦为有机磷酸类化合物和/或有机磷酸酯类化合物的螯合剂;所述的含氮杂环类为含有两个氮原子的六元杂环、含有三个氮原子的六元杂环和含有两个氮原子的的五元杂环中的一种或多种;所述的有机胺类为伯胺、仲胺、叔胺和季铵类化合物中的一种或多种;所述的水溶性羧酸类聚合物为水溶性羧酸类均聚物、水溶性羧酸类共聚物和聚羧酸类化合物的盐中的一种或多种。
10.如权利要求9所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的苯并三氮唑衍生物为羧基和/或酯基取代的苯并三唑衍生物;所述的四唑衍生物为苯基取代的四唑衍生物、巯基取代的四唑衍生物、氨基取代的四唑衍生物、苯基和巯基取代的四唑衍生物、苯基和氨基取代的四唑衍生物、巯基和氨基取代的四唑衍生物,以及苯基、巯基和氨基共同取代的四唑衍生物中的一种或多种。
11.如权利要求8所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化氢脲、过氧乙酸、过氧化苯甲酰、过硫酸钾、过硫酸铵和硝酸铵中的一种或多种;所述的阳离子表面活性剂为数均分子量为2000~50000的聚乙烯亚胺和/或十六烷基三甲基氯化铵;所述的阴离子型表面活性剂为数均分子量为1000~50000的聚丙烯酸类聚合物;所述的两性表面活性剂为甜菜碱类表面活性剂;所述的非离子型表面活性剂为数均分子量为200-20000的聚乙二醇和/或亲水疏水平衡值为5~15的聚氧乙烯醚;所述的成膜剂为苯并三氮唑、4-羧基苯并三氮唑甲酯、5-羧基苯并三氮唑甲酯、4-羧基苯并三氮唑丁酯、5-羧基苯并三氮唑丁酯、4-羟基苯并三氮唑、5-羟基苯并三氮唑、苯并咪唑、吲哚、甲基苯并三氮唑、吲唑、N-甲基苯三唑、1-H四氮唑、5-氨基四氮唑、5-甲基-四氮唑和1-苯基-5巯基四氮唑中的一种或多种;所述的螯合剂为羟基亚乙基二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、2-膦酸丁烷-1,2,4三羧酸、2-羟基膦酰基乙酸、聚氨基聚醚基亚甲基膦酸、多元醇磷酸酯、嘧啶、吡啶、哌啶、哌嗪、哒嗪、吗啉、氨基取代的三唑类化合物、羧基取代的三唑类化合物、己二胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、四乙烯五胺、环己胺、聚丙烯酸、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸钠盐、聚丙烯酸铵盐、聚马来酸均聚物、聚环氧琥珀酸均聚物、聚天冬氨酸均聚物、丙烯酸-丙烯酸酯共聚物、丙烯酸-马来酸共聚物和丙烯酸-有机磷酸-磺酸盐共聚物中的一种或多种。
12.如权利要求8所述的化学机械抛光液,其特征在于:所述的水溶性羧酸类聚合物的数均分子量为200~5000。
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