[发明专利]一种去除光阻层残留物的清洗液

权利要求书

1.一种去除光阻层残留物的清洗液，其包含：N-甲基乙醇胺、其他醇胺、水和螯合剂。

2.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述N-甲基乙醇胺的含量为5-65wt％。

3.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述其他醇胺选自单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺的一种或多种。

4.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述其他醇胺的含量为10～70wt％。

5.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述水的含量为1～30wt％。

6.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述螯合剂选自柠檬酸、亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、邻苯二酚、邻苯三酚、3，4-二羟基苯甲酸、没食子酸、水杨酸和磺基水杨酸的一种或多种。

7.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述螯合剂的含量为0.1～15wt％。

8.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述清洗液还进一步包含溶剂。

9.如权利要求8所述清洗液，其特征在于，所述溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、醇、醚和酰胺中的一种或多种。

10.如权利要求9所述清洗液，其特征在于，所述亚砜为C₁-C₄亚砜和/或C₇-C₁₀的芳基亚砜；所述砜为C₁-C₄砜和/或C₇-C₁₀的芳基砜；所述的咪唑烷酮为1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮和/或羟乙基吡咯烷酮；所述咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述醇为C₁-C₄烷基醇和/或C₇-C₁₀的芳基醇；所述醚为C₃-C₂₀的醚；所述酰胺为C₁-C₆烷基酰胺。

11.如权利要求10所述清洗液，其特征在于，所述亚砜为二甲基亚砜；所述砜为环丁砜；所述的咪唑烷酮为1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮和/或羟乙基吡咯烷酮；所述咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述醇为丙二醇和/或二乙二醇；所述醚为丙二醇单甲醚和/或二丙二醇单甲醚；所述酰胺为二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺。

12.如权利要求8所述清洗液，其特征在于，所述溶剂的含量为≤50wt％但不包括0wt％。