[发明专利]高导电率高硅铝基合金及其制备方法无效
申请号: | 200810204594.2 | 申请日: | 2008-12-15 |
公开(公告)号: | CN101456122A | 公开(公告)日: | 2009-06-17 |
发明(设计)人: | 严彪;安建军 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | B23P17/00 | 分类号: | B23P17/00;B22D23/00;B22F3/20;C22C1/03;C22C21/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 200092上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电 率高硅铝基 合金 及其 制备 方法 | ||
1.一种制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,包括如下步骤:
a、用纯Al、Si、M合金熔炼得到预制合金Al-aSi-bM,其中,M为稀土,5≤a≤60, 0.1≤b≤10;
b、将得到的预制合金Al-aSi-bM放入真空感应熔炼炉中熔炼,熔炼完毕,再用氮-氩混 合气体保护将熔融态Al-aSi-bM母合金喷射成型;
c、将喷射成型态Al-aSi-bM合金放入热挤压机中挤压成型;
d、对热挤压后得到的Al-aSi-bM合金进行多道次冷轧。
2.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,步骤a中,M选 取的稀土元素为混合稀土,主要合金元素Ce占混合稀土质量的40%以上。
3.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,步骤b中,感应熔 炼采用中频感应加热,加热功率为5~20kW,温度为1000-1200℃。
4.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,步骤b中,喷射成 型设备采用双层非限制式气流雾化喷嘴。
5.如权利要求4所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,所述喷射成型设备 的喷嘴直径为3-4mm、熔体质量流率为6~8kg/min。
6.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,步骤b中,保护气 体压强为0.6-0.8MPa,真空感应熔炼炉内的真空度为10-3~10-4Pa。
7.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,所述的步骤c中, Al-aSi-bM合金粉末挤压温度为300~310℃,挤压载荷为200~400MP,挤压时间为3~4h, 挤压次数为1~5次。
8.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,所述的步骤c为, 先逐步加压到200~400MP稳定的压力,然后升温至粉末熔点温度的50%-60%处热压, 保温3~4个小时后降温冷轧。
9.如权利要求1所述制备高导电率高硅铝基合金的方法,其特征在于,所述的步骤d中, 室温下先逐步压至70~150KN稳定的压力,维持1~2个小时,然后撤掉压力。
10.一种高导电率高硅铝基合金,由权利要求1-9中任一权利要求所述制备高导电率高 硅铝基合金的方法制得。
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