[发明专利]一种对准光源装置有效
申请号: | 200810204951.5 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN101446775A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 王诗华;徐荣伟 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G02B27/09;G02B1/10 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 对准 光源 装置 | ||
1.一种对准光源装置,包括至少两套波长不同的激光单元,所述激光单元至少包括一激光器,其特征在于:在所述激光器发出的光束的光路上放置一光束整形装置,用于缩小光束光斑,所述光束整形装置包括:
第一旋光片和第二旋光片,分别位于所述光束整形装置的两端,光束经所述第一旋光片进入所述光束整形装置,经所述第二旋光片射出;
第一偏振分束器和第二偏振分束器,沿光路方向设置于所述第一旋光片和所述第二旋光片之间;
第一整形器件和第二整形器件,位于所述第一偏振分束器和所述第二偏振分束器之间;
第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜将所述第一偏振分束器的反射出射光反射进入所述第二整形器件,所述第二反射镜将所述第二整形器件的出射光反射进入所述第二偏振分束器或者将所述第一整形器的出射光反射进入所述第二偏振分束器。
2.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一反射镜和所述第二反射镜上都镀有增反膜。
3.根据权利要求2所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述增反膜为用于增强该波长的光的反射能力的增反膜。
4.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述激光器为气体激光器、或者是固体激光器、或者是半导体激光器、或者是光纤激光器。
5.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一旋光片和第二旋光片都包括两个区域:第一透光区域和第二透光区域,每个透光区域皆为半圆环状。
6.根据权利要求5所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一透光区域旋光角度为90度,将入射激光束的偏振方向旋转90度。
7.根据权利要求5所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第二透光区域旋光角度为0度,将入射激光束的偏振方向旋转0度。
8.根据权利要求5所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述光束整形装置还包括电机,通过电机带动第一旋光片和第二旋光片旋转实现各旋光片第一透光区域和第二透光区域之间的切换。
9.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一偏振分束器和所述第二偏振分束器的分束面互相垂直或平行。
10.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述光束整形装置入射光斑为圆形,光斑经过整形后,出射长条形光斑。
11.根据权利要求1所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一整形器件和第二整形器件为柱面透镜组,或者是液晶光阀调制器,或者是微光学元件。
12.根据权利要求11所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述柱面透镜组由两个焦距不同的柱面透镜组成,两焦距的比例由所需的长条形光斑的宽度决定。
13.根据权利要求11所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一整形器件的柱面透镜组和所述第二整形器件的柱面透镜组相互垂直放置。
14.根据权利要求11所述的一种对准光源装置,其特征在于:所述第一整形器件柱面透镜组的柱面镜平面沿水平方向,所述第二整形器件柱面透镜组的柱面镜平面沿垂直方向;或者所述第一整形器件柱面透镜组的柱面镜平面沿垂直方向,所述第二整形器件柱面透镜组的柱面镜平面沿水平方向。
15.一种用于光刻设备的对准系统,其特征在于:所述对准系统由如权利要求1所述的对准光源装置,以及光学模块、信号处理模块和对准标记构成,其中对准光源装置发出对准照明光束,照射对准标记;光学模块采集对准标记的±1级衍射光,对±1级衍射光相干成像,并探测对准光信号;信号处理模块处理对准光信号得到对准标记的位置信息,所述对准光源装置中包括光束整形装置,用于将对准照明光束的圆形光斑整形成长条形光斑;所述对准标记为长条形结构,包括三组不同周期的相位光栅。
16.根据权利要求15所述的一种用于光刻设备的对准系统,其特征在于:组成对准标记的三组相位光栅沿对准方向排列,形成长条形结构,排列在中间的一组相位光栅的周期小于排列在其两侧的相位光栅的周期。
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