[发明专利]掩模板的存放方法及掩模板的存放装置无效
| 申请号： | 200810205388.3 | 申请日： | 2008-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN101770159A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 熊章艳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 模板 存放 方法 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩模板的存放方法，其特征在于，包括步骤：
将掩模板放于掩模盒内，在掩模盒外或掩模盒内放置能够吸收NH3的物质；
将所述掩模盒和所述能够吸收NH3的物质密封。
2.根据权利要求1所述的存放方法，其特征在于，所述能够吸收NH3的物质包括CaCl2。
3.根据权利要求2所述的存放方法，其特征在于，所述能够吸收NH3的物质还包括H2SiO3。
4.根据权利要求3所述的存放方法，其特征在于，并且所述能够吸收NH3的物质中H2SiO3和CaCl2的摩尔比率是1∶9～8∶2。
5.根据权利要求1所述的存放方法，其特征在于，所述密封为用塑料材料密封。
6.根据权利要求5所述的存放方法，其特征在于，在所述塑料材料密封之前将掩模板用静电材料包装。
7.根据权利要求6所述的存放方法，其特征在于，在所述塑料材料密封之后用泡沫防震材料包装。
8.一种掩模板的存放装置，其特征在于，包括存放掩模板的掩模盒和掩膜盒外的密封装置，所述密封装置用于将掩模盒与所述密封装置外的空气隔离，在所述密封装置内具有吸收NH3的物质。
9.根据权利要求8所述的存放装置，其特征在于，所述能够吸收NH3的物质包括CaCl2。
10.根据权利要求9所述的存放装置，其特征在于，所述能够吸收NH3的物质还包括H2SiO3。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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