[发明专利]一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置无效
申请号: | 200810207874.9 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101481793A | 公开(公告)日: | 2009-07-15 |
发明(设计)人: | 王晓飞;王志毅;丰平;王鸿;夏芃;范振华;范继良 | 申请(专利权)人: | 上海拓引数码技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/513 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 邓 琪 |
地址: | 200234上海市徐汇区*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大面积 微波 等离子体 化学 沉积 装置 | ||
1.一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置,包括一微波源,一渐变波导管,以及至少一矩形波导管,所述的微波源、渐变波导管、矩形波导管依次连接,一上端由石英玻璃板密封的一主腔体位于矩形波导管下方,矩形波导管具有一带有微波馈入孔的微波馈入窗口,所述微波馈入窗口与石英玻璃板贴合,至少一布气管通入主腔体内,主腔体内具有一用来装载基底的载物装置,所述矩形波导管与所述基底对应放置,以及一连接主腔体的真空系统。
2.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,在载物装置下端还包括一高度调节装置用来调节所述载物装置的高度。
3.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述矩形波导管至少为两个,且并排分布。
4.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的主腔体上还具有一个观察窗。
5.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述石英玻璃板可以为整块的形式也可为多块拼接的形式。
6.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的载物装置使用卡口将基底固定,或使用滚轮将基底传送到载物装置上。
7.根据权利要求2所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的高度调节装置采用波纹管密封的结构。
8.根据权利要求1所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述的微波馈入窗口为可更换式。
9.根据权利要求9所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述微波馈入窗口的形状为平行四边形、椭圆形、三角形或长矩形。
10.根据权利要求3所述的大面积微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,在所述的渐变波导管和所述的矩形波导管之间连接一带有一个进口和多个出口的波导管T形接头,所述的进口与渐变波导管的出口连接,所述的多个出口分别连接一矩形波导管。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海拓引数码技术有限公司,未经上海拓引数码技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810207874.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:声磁联合作用的除尘、脱硫流化床反应器
- 下一篇:一种加压型光催化反应系统
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的