[发明专利]使用电磁波的检查装置和检查方法有效
申请号: | 200810212465.8 | 申请日: | 2008-08-29 |
公开(公告)号: | CN101377465A | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | 尾内敏彦 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/17 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 杨国权 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 电磁波 检查 装置 方法 | ||
1.一种用于使用太赫波来执行检查的检查装置,包括:
电磁波产生和照射单元,其产生太赫波并将所述太赫波照射到检 查对象上;
电磁波检测单元,其具有多个检测单元,
其中,所述多个检测单元被布置以便检测由电磁波产生和照射单 元所照射并通过与检查对象的不同位置相互作用而透射或反射的太 赫波,将所述多个检测单元构造为以不同的检测时间来检测来自不同 位置的太赫波,从而通过对来自多个检测单元的测量的值进行合成来 从检查对象获取太赫波的时间波形。
2.如权利要求1所述的检查装置,其中,所述太赫波是包括 30GHz到30THz的频域中的一部分频率的脉冲,以及所述太赫波分 别被照射到检查对象的不同位置上;以及
其中,通过对所述多个检测单元所检测的透射或反射的太赫波的 测量的值进行合成来获取检查对象的平均太赫波频谱信息。
3.如权利要求1所述的检查装置,还包括:
多个镜;以及
激光器,用于经由所述多个镜将光照射到电磁波检测单元上以及 将光照射到电磁波产生和照射单元上,其中,通过对由多个检测单元 所检测的透射或反射的太赫波的测量的值进行合成来获取检查对象 的平均太赫波频谱信息,其中通过由所述多个镜所反射的光来照射所 述多个检测单元。
4.如权利要求1所述的检查装置,还包括:
长度不同的多个光纤;以及
光纤激光器,用于经由所述多个光纤将光照射到电磁波检测单元 上以及将光照射到电磁波产生和照射单元上,其中,通过对由多个检 测单元所检测的透射或反射的太赫波的测量的值进行合成来获取检 查对象的平均太赫波频谱信息,其中由通过所述多个光纤的光来照射 所述多个检测单元。
5.一种用于使用太赫波来执行检查的检查方法,包括:
产生太赫波并将所述太赫波照射到检查对象的不同位置上的步 骤;
由多个检测单元以不同的检测时间来检测通过与检查对象的不 同位置相互作用而透射或反射的太赫波的步骤;以及
通过对来自多个检测单元的测量的值进行合成从检查对象获取 太赫波的时间波形的步骤。
6.如权利要求5所述的检查方法,其中,检查对象是由经排列 的多个相同种类的样本或由均质样本构成的对象。
7.如权利要求5所述的检查方法,其中,检查对象进行移动, 以及检查对象的不同位置随着检查对象的移动而顺序地改变。
8.如权利要求6所述的检查方法,还包括以下步骤:
当获取的太赫波的时间波形处于均质样本或相同种类的样本应 该满足的参考值范围之外时,筛选样本。
9.如权利要求6所述的检查方法,还包括以下步骤:
当获取的太赫波的时间波形处于均质样本或相同种类的样本应 该满足的参考值范围之外时,对样本的生产设备的生产条件执行反馈 控制,以便在参考值范围之内进行调整。
10.一种用于使用太赫波来执行检查的检查装置,包括:
多个产生单元,用于产生太赫波;以及
多个检测单元,用于检测由所述多个产生单元产生并由检查对象 透射或反射的太赫波,
其中,布置所述多个检测单元从而以不同延迟时间分别检测透射 或反射的太赫波,以及
通过对来自所述多个检测单元的测量的值进行合成来获取透射 或反射的太赫波的时间波形。
11.如权利要求10所述的检查装置,其中,所述多个产生单元 和多个检测单元是以一维阵列的形状排列的多个光电导元件,矩形形 状的激光束被同时照射到多个光电导元件上并以直线被会聚。
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