[发明专利]Ⅲ族氮化物半导体发光器件无效

专利信息
申请号: 200810212624.4 申请日: 2008-08-25
公开(公告)号: CN101478021A 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 金昌台;南起炼 申请(专利权)人: 艾比维利股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;谭 辉
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 氮化物 半导体 发光 器件
【权利要求书】:

1.一种III族氮化物半导体发光器件,所述III族氮化物半导体发光器件包括:

衬底;

在所述衬底上外延生长的缓冲层;

在所述缓冲层上外延生长的n型氮化物半导体层;

在所述n型氮化物半导体层上外延生长的有源层;

在所述有源层上外延生长的p型氮化物半导体层;

在所述p型氮化物半导体层上形成的p侧电极;

在通过刻蚀所述p型氮化物半导体层和所述有源层而暴露的所述n型氮化物半导体层上形成的n侧电极,所述n侧电极用于电流供应和外部接线;

与所述p侧电极电接触的p侧焊盘;和

设置有从所述p侧焊盘向所述n侧电极延伸的臂部和从所述臂部向所述n侧电极分叉的两个指状物的支电极,

其中,所述发光器件为具有长边和短边的矩形,而所述臂部沿所述长边向所述n侧电极延伸,并且所述两个指状物形成为与所述n侧电极有间隔并且围绕所述n侧电极。

2.如权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其中,所述支电极的所述两个指状物形成为以距所述n侧电极预定的距离围绕所述n侧电极。

3.如权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其中,通过刻蚀暴露所述n型半导体层的一部分,并且在所述n型半导体层的暴露部分上形成粗糙面。

4.如权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其中,所述两个指状物在所述p侧电极和所述n侧电极之间的中心处分叉。

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