[发明专利]互相连接的多元件栅格抛光垫有效

专利信息
申请号: 200810212660.0 申请日: 2008-08-15
公开(公告)号: CN101367190A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 江波;G·P·马尔多尼 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;H01L21/304
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陈哲锋
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 互相 连接 多元 栅格 抛光
【权利要求书】:

1.一种可用来在抛光介质的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的 至少一种进行抛光的抛光垫,该抛光垫包括:

a)大量抛光元件,所述抛光元件具有高度、平均高度、斜率和平均斜率,所述 抛光元件沿垂直方向对齐且高度和斜率保持在平均高度和斜率的20%以内,具有 第一端部和第二端部;

b)大量连接点,所述大量连接点中的每一个将至少三个抛光元件中的所述抛光 元件的第一端部与第二端部连接起来,形成叠层,所述各叠层表示抛光元件的第一 端部和第二端部之间沿垂直方向的厚度;

c)通过将连接所述抛光元件的大量连接点的顺序的叠层连接起来形成的互连 栅格结构。

2.如权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述连接点连接3-6个抛光元 件。

3.如权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述抛光元件与恒定方向上的 每个连接点上面和下面的抛光元件对齐。

4.如权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,每个抛光元件包括一系列搭接 件。

5.如权利要求1所述的抛光垫,其特征在于,所述互连的栅格缺少水平抛光 元件。

6.一种可用来在抛光介质的存在下对磁性基材、光学基材和半导体基材中的 至少一种进行抛光的抛光垫,该抛光垫包括:

a)大量抛光元件,所述抛光元件具有高度、平均高度、斜率和平均斜率,所 述抛光元件沿垂直方向对齐且高度和斜率保持在平均高度和斜率的20%以内,具 有第一端部和第二端部;

b)大量连接点,所述大量连接点中的每一个将至少三个抛光元件中的所述抛光 元件的第一端部与第二端部连接起来,形成叠层,所述各叠层表示抛光元件的第一 端部和第二端部之间沿垂直方向的厚度;

c)通过将大量连接点的顺序叠层连接起来形成的互连栅格结构,所述连接点 将抛光元件连接起来,使得所述抛光元件通过多个连接点沿恒定的方向对齐。

7.如权利要求6所述的抛光垫,其特征在于,所述连接点连接3-6个抛光元 件。

8.如权利要求6所述的抛光垫,其特征在于,所述连接点连接3个抛光元件。

9.如权利要求6所述的抛光垫,其特征在于,每个抛光元件包括一系列搭接 件。

10.如权利要求6所述的抛光垫,其特征在于,所述互连的栅格缺少水平抛 光元件。

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