[发明专利]基片显影方法及实施该方法的装置

权利要求书

1.一种基片显影方法，包括：

使显影喷嘴离开设置在所述基片一侧的第一洗槽，所述基片由基片支 承部支承；

在以水平方向朝设置在所述基片另一侧的第二洗槽移动所述显影喷嘴 期间，将显影液施加到所述基片上；

将所述显影喷嘴收纳到所述第二洗槽内；以及

在所述第二洗槽内清洗所述显影喷嘴。

2.如权利要求1所述的方法，还包括：

向上移动围绕所述基片支承部设置的杯状结构，使得在施加所述显影 液后，所述基片被所述杯状结构包围；

清洁所述施加了显影液的所述基片；

干燥所述清洁后基片；以及

向下移动所述杯状结构。

3.一种基片显影方法，包括：

在以第一水平方向从设置在所述基片一侧的第一洗槽朝设置在所述基 片另一侧的第二洗槽移动显影喷嘴期间，将显影液首次施加到由基片支承 部支承的所述基片上；

在所述第二洗槽中首次清洗所述显影喷嘴；

在以第二水平方向从所述第二洗槽朝所述第一洗槽移动所述显影喷嘴 期间，将显影液再次施加到所述基片上；以及

在所述第一洗槽内再次清洗所述显影喷嘴。

4.如权利要求3所述的方法，还包括：

在所述首次施加显影液之后，首次清洁所述基片；

在所述再次施加显影液之后，再次清洁所述基片；以及

在再次清洁所述基片之后，干燥所述基片。

5.一种基片显影装置，包括：

支承所述基片的基片支承部；

可在由所述基片支承部支承的所述基片上方以水平方向移动的显影喷 嘴，用于将显影液施加到所述基片上；

设置在所述基片支承部一侧，用于清洗所述显影喷嘴的第一洗槽；以 及

设置在所述基片支承部另一侧，用于清洗所述显影喷嘴的第二洗槽。

6.如权利要求5所述的装置，还包括：

与所述第一洗槽连接的第一清洗液供给部，用于将清洗液送入所述 第一洗槽，以清洗所述显影喷嘴；及

与所述第二洗槽连接的第二清洗液供给部，用于将清洗液送入所述 第二洗槽，以清洗所述显影喷嘴。

7.如权利要求5所述的装置，还包括围绕所述基片支承部设置的、可向上 和向下移动的杯状结构。