[发明专利]应用于显示装置的像素结构及该显示装置有效
申请号: | 200810212905.X | 申请日: | 2008-09-04 |
公开(公告)号: | CN101666908A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 庄凯丞 | 申请(专利权)人: | 元太科技工业股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/02 | 分类号: | G02B26/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 显示装置 像素 结构 | ||
1.一种应用于显示装置的像素结构,该像素结构是利用该显示装置外侧进入的一光线为一光源,该像素结构包含:
一第一基板;
一光阻挡层,设置于该第一基板上,具有一透光区以及一不透光区;
一有源元件,设置于该光阻挡层的该不透光区上,该有源元件具有一第一状态以及一第二状态;以及
一活动光遮蔽层,设置于该光阻挡层及该有源元件上,
其中当该有源元件处于该第一状态时,该活动光遮蔽层适可覆盖该透光区,以遮蔽该光线的至少一部分自该第一基板向外射出;以及当该有源元件处于该第二状态时,该活动光遮蔽层受驱动,以使该光线通过该透光区,自该第一基板向外射出。
2.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于该光阻挡层还包含一黑矩阵,设置于该光阻挡层的该不透光区中,适以阻挡该光线。
3.根据权利要求2所述的像素结构,其特征在于还包含一电极层,设置于该有源元件以及该活动光遮蔽层之间,并电性连该有源元件,其中当该有源元件处于该第一状态时,该电极层未施加电压,当该有源元件处于第二状态时,该电极层被施加一电压而具有一电荷分布。
4.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于该电极层包含一铟锡氧化物层。
5.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于还包含一钝化层,设置于该有源元件以及该电极层之间,用以间隔该有源元件及该电极层。
6.根据权利要求3所述的像素结构,其特征在于还包含一疏水层,设置于该电极层以及该活动光遮蔽层之间。
7.根据权利要求6所述的像素结构,其特征在于还包含一挡墙,设置于该疏水层上。
8.根据权利要求7所述的像素结构,其特征在于当该有源元件是处于该第二状态时,该光阻挡层的该不透光区至少覆盖该有源元件、该活动光遮蔽层以及该挡墙。
9.根据权利要求8所述的像素结构,其特征在于还包含一第二基板,与该第一基板相对设置。
10.根据权利要求9所述的像素结构,其特征在于还包含一极性液体层,设置于该活动光遮蔽层以及该第二基板之间,其中当该有源元件处于该第一状态时,该活动光遮蔽层覆盖该疏水层以间隔该疏水层与该极性液体层;当该有源元件处于该第二状态时,该极性液体层受到该疏水层所吸引而往该疏水层移动,并驱动该活动光遮蔽层往该挡墙侧移动,使该光线可通过该透光区,自该第一基板向外射出。
11.根据权利要求9所述的像素结构,其特征在于还包含一反射层,设置于该第二基板上,电性连接至该有源元件,该反射层适以反射自该显示装置外侧进入的该光线,使该光线通过该透光区,自该第一基板向外射出。
12.根据权利要求11所述的像素结构,其特征在于该反射层的材料包含铝。
13.根据权利要求11所述的像素结构,其特征在于该反射层的材料包含铝合金。
14.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于该有源元件包含至少一薄膜晶体管。
15.根据权利要求1所述的像素结构,其特征在于该活动光遮蔽层是为一非极性液体。
16.根据权利要求15所述的像素结构,其特征在于该非极性液体是一油墨。
17.根据权利要求10所述的像素结构,其特征在于该极性液体是水。
18.根据权利要求10所述的像素结构,其特征在于该极性液体是水、酒精以及盐类物质的混合物。
19.一种显示装置,其特征在于包含多个如权利要求1所述的像素结构。
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