[发明专利]偏振膜及其制造方法及偏振片的制造方法

权利要求书

1.一种偏振膜，其为在聚乙烯醇类树脂膜上吸附取向有二色性色素的偏振膜，其中，硼的含量为3～3.9重量％的范围，在使该偏振膜的拉伸轴方向为短边、以2mm×8mm的大小加热至80℃时，与拉伸轴正交的方向的收缩力为2.8N以下。

2.一种偏振膜的制造方法，其按照溶胀处理工序、染色处理工序和硼酸处理工序的顺序处理聚乙烯醇类树脂膜，并且在这些处理工序中的至少1个工序中进行单轴拉伸而制造偏振膜，其中，

硼酸处理工序包括：在相对于100重量份水含有2～5重量份硼酸的水溶液中、在50～70℃的温度下进行的第一硼酸处理；和在硼酸含量低于第一硼酸处理所用水溶液的水溶液中、在低于第一硼酸处理的温度下进行的第二硼酸处理。

3.根据权利要求2所述的偏振膜的制造方法，其中，第一硼酸处理所用的水溶液相对于100重量份水含有3～4.5重量份硼酸。

4.根据权利要求2或3所述的偏振膜的制造方法，其中，第二硼酸处理在硼酸含量比第一硼酸处理所用水溶液中相对于100重量份水的硼酸含量低0.5重量份以上的水溶液中、在比第一硼酸处理温度低5℃以上的温度下进行。

5.一种偏振片，其通过在权利要求1所述偏振膜的至少1个面上粘贴透明保护膜而得到。

6.一种偏振片的制造方法，其为在由聚乙烯醇类树脂构成的偏振膜的至少一个面上层压保护膜而得到的偏振片的制造方法，其具有：

使用水性粘合剂粘贴偏振膜和保护膜而得到层压膜的粘贴工序；和

通过使所述层压膜通过N个(N≥2)干燥炉而将其干燥的干燥工序，

在所述干燥工序中，所述层压膜最初通过的第1段干燥炉的温度小于60℃、在第2～第N段干燥炉中至少1个干燥炉的温度为60℃以上，并且

在所述干燥工序中，所述层压膜在满足下述式(1)关系的条件下进行干燥，

Y>-0.3X+16000       (1)

在此，X(℃·秒)是全部干燥炉的各干燥炉的温度(℃)与该干燥炉内的所述层压膜滞留时间(秒)之积的和，另外，Y(℃·秒)是温度为60℃以上的干燥炉的温度60℃以上干燥炉温度(℃)与该干燥炉内的所述层压膜滞留时间(秒)之积的和。

7.根据权利要求6所述的偏振片的制造方法，其中，第1段干燥炉的温度为30℃以上且小于60℃。

8.根据权利要求6或7所述的偏振片的制造方法，其中，所述温度为60℃以上的干燥炉的温度为60℃以上、100℃以下。

9.根据权利要求6所述的偏振片的制造方法，其中，所述干燥工序中，所述层压膜在施加张力的状态下进行干燥。

10.根据权利要求6所述的偏振片的制造方法，其中，所述偏振膜为权利要求1所述的偏振膜。

11.根据权利要求6所述的偏振片制造方法，其中，所述偏振膜为通过权利要求2所述的制造方法制造的偏振膜。