[发明专利]蚀刻液浓度控制方法无效
申请号: | 200810213433.X | 申请日: | 2008-09-02 |
公开(公告)号: | CN101667040A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 陈志行 | 申请(专利权)人: | 浩硕科技股份有限公司 |
主分类号: | G05D11/02 | 分类号: | G05D11/02;G03F7/30 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 武晶晶;杨淑媛 |
地址: | 台湾省桃园县中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 浓度 控制 方法 | ||
1.一种蚀刻液浓度控制方法,包括下列步骤:
(a)设定蚀刻液的目标浓度值;
(b)抽取蚀刻液样本;
(c)用丙二醇稀释所述蚀刻液样本;
(d)测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值;
(e)依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,调整所述蚀刻液的浓度至所述目标浓度值。
2.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(b)还包括:
通过微泵从所述蚀刻液中抽取所述蚀刻液样本。
3.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(d)还包括:
用酸碱中和滴定法测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值。
4.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(e)还包括:
当所述目标浓度值大于所测量的浓度值时,则依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,增加所述蚀刻液浓度至所述目标浓度值。
5.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(e)还包括:
当所述目标浓度值小于所测量的浓度值时,则依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,减少所述蚀刻液浓度至所述目标浓度值。
6.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述蚀刻液选自由氢氧化钠、氢氧化钾、氨组成的组。
7.如权利要求1所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述蚀刻液选自由盐酸、氢氟酸、硝酸、醋酸、磷酸、硫酸组成的组。
8.一种蚀刻液浓度控制方法,包括下列步骤:
(a)设定蚀刻液的目标浓度值;
(b)抽取蚀刻液样本;
(c)用稀释液稀释所述蚀刻液样本;
(d)测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值;
(e)依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,调整所述蚀刻液的浓度至所述目标浓度值。
9.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(b)还包括:
通过微泵从所述蚀刻液中抽取所述蚀刻液样本。
10.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述稀释液选自由丙二醇、甘油、异丙醇组成的组。
11.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(d)还包括:
用酸碱中和滴定法测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值。
12.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(e)还包括:
当所述目标浓度值大于所测量的浓度值时,则依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,增加所述蚀刻液浓度至所述目标浓度值。
13.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(e)还包括:
当所述目标浓度值小于所测量的浓度值时,则依据所述目标浓度值与所测量的浓度值的差值,减少所述蚀刻液浓度至所述目标浓度值。
14.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述蚀刻液选自由氢氧化钠、氢氧化钾、氨组成的组。
15.如权利要求8所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述蚀刻液选自由盐酸、氢氟酸、硝酸、醋酸、磷酸、硫酸组成的组。
16.一种蚀刻液浓度控制方法,包括下列步骤:
(a)设定蚀刻液的目标浓度值;
(b)抽取蚀刻液样本;
(c)用稀释液稀释所述蚀刻液样本;
(d)测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值;
(e)当所述目标浓度值不等于所测量的浓度值时,调整所述蚀刻液的浓度等于所述目标浓度值。
17.如权利要求16所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(b)还包括:
通过微泵从所述蚀刻液中抽取所述蚀刻液样本。
18.如权利要求16所述的蚀刻液浓度控制方法,其中步骤(d)还包括:
用酸碱中和滴定法测量所述蚀刻液样本的浓度,得到所测量的浓度值。
19.如权利要求16所述的蚀刻液浓度控制方法,其中所述稀释液选自由丙二醇、甘油、异丙醇组成的组。
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