[发明专利]相位差薄膜、光学功能薄膜、偏振光薄膜以及显示装置有效

专利信息
申请号: 200810213471.5 申请日: 2005-09-09
公开(公告)号: CN101393296A 公开(公告)日: 2009-03-25
发明(设计)人: 白井贤治;鹿岛启二;黑田刚志;梁谷岳史 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 相位差 薄膜 光学 功能 偏振光 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种相位差薄膜,是在高分子薄膜内含有具有折射率各向异性的材料而成的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料是具有聚合性官能基团的材料,并且该具有折射率各向异性的材料在所述高分子薄膜的厚度方向上具有浓度梯度,

所述具有折射率各向异性的材料是在所述聚合性官能基团之间进行聚合之前具有液晶性的材料。

2.一种相位差薄膜,是在高分子薄膜内含有具有折射率各向异性的材料而成的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料是具有聚合性官能基团的材料,并且该具有折射率各向异性的材料在所述高分子薄膜的厚度方向上具有浓度梯度,且该浓度梯度连续变化,

所述具有折射率各向异性的材料是在所述聚合性官能基团之间进行聚合之前具有液晶性的材料。

3.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述高分子薄膜在折射率上具有规律性。

4.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料的分子结构是棒状的。

5.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述聚合性官能基团是能立体交联的聚合性官能基团。

6.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料是分子结构为棒状且在末端具有聚合性官能基团的材料。

7.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料在所述高分子薄膜厚度方向上的浓度梯度,是在所述高分子薄膜的一个表面侧是高浓度,而朝向另一个表面侧就变成低浓度的浓度梯度。

8.如权利要求7所述的相位差薄膜,其特征在于,所述相位差薄膜对于纯水的接触角是一个表面与另一个表面不同。

9.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述具有折射率各向异性的材料在所述高分子薄膜厚度方向上的浓度梯度,是在所述高分子薄膜的两表面侧是高浓度,而朝向中央部就变成低浓度的浓度梯度。

10.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,其具有所述具有折射率各向异性的材料的浓度梯度平缓的区域、和所述具有折射率各向异性的材料的浓度梯度陡急的区域。

11.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,其具有不含有所述具有折射率各向异性的材料的区域。

12.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,若把所述薄膜的面内方向的滞后轴向折射率设定为nx、把薄膜的面内方向的超前轴向折射率设定为ny、把薄膜的厚度方向的折射率设定为nz、把厚度设定为d,把用Rth[nm]={(nx+ny)/2-nz}×d表示的Rth设定为是厚度方向滞后时,所述厚度方向滞后是70~300nm。

13.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,以JIS-K7105为基准进行测定时的浊度值是1%以下。

14.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述相位差薄膜在可见光区域的滞后值是短波长侧的大于长波长侧的。

15.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,所述相位差薄膜在可见光区域的滞后值是长波长侧的大于短波长侧的。

16.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,若把所述相位差薄膜的面内方向的滞后轴向折射率设定为nx、把薄膜的面内方向的超前轴向折射率设定为ny、把薄膜的厚度方向的折射率设定为nz、把厚度设定为d,把用Rth[nm]={(nx+ny)/2-nz}×d表示的Rth设定为是厚度方向滞后时,以波长550nm测定得到的所述相位差薄膜的厚度方向滞后在薄膜面方向的偏差,以Rth的平均值作为基准在±5nm的范围内。

17.如权利要求1或2所述的相位差薄膜,其特征在于,其能卷绕成最小直径6英寸以下的卷筒状。

18.一种相位差薄膜,其特征在于,其把权利要求1或2所述的单层相位差薄膜相互贴合两片以上而成。

19.一种光学功能薄膜,其特征在于,其把权利要求1或2所述的相位差薄膜与相位差薄膜以外的光学功能层直接贴合而成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本印刷株式会社,未经大日本印刷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810213471.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top