[发明专利]掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位置确认方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位置确认 方法。

背景技术

在现有的液晶显示面板工艺中，通常在单一母板1上会设计有多个工艺 区块以制作为显示基板，如图1所示。不过在制作这些显示基板的流程中(尤 其是曝光工艺)，为避免在制作邻近的待工艺区块11(尚未进行曝光工艺者) 时彼此干扰，甚至是破坏已工艺完毕的已工艺区块12(已完成曝光工艺者)， 在已知的技术中，曝光装置中通常会在掩膜(图未显示)与母板1之间设置 有至少一个屏蔽件，使母板1在对目标工艺区块11a进行曝光工艺时，可通 过屏蔽件与母板1之间的相对位置，将目标工艺区块11a露出，并有效地屏 蔽母板1上欲保护的工艺区块(包括其他待工艺区块11及已工艺区块12)。

举例来说，请参照图2A至图2C所示，其依序为已知母板在曝光装置中 进行曝光时的屏蔽件与母板之间的相对位置示意图。其中，根据图2A至图 2C所示，曝光装置设置有二相对应的屏蔽件22、24。首先，在图2A中所示 的结构表示置放母板1于曝光装置中，其中母板1上具有多个已工艺区块12、 多个待工艺区块11及一目标工艺区块11a，此时由于尚未对目标工艺区块11a 进行曝光工艺，因此屏蔽件22、24仍未移动。接续，当欲对母板1上的目标 工艺区块11a进行曝光工艺时，则二屏蔽件22、24分别移动至目标工艺区块 11a的边界，如图2B中所示，以屏蔽邻近于待工艺区块11周围的已工艺区块 12与待工艺区块11，并在屏蔽件22、24到达定位后，对此一目标工艺区块 11a进行曝光工艺。最后，当此一目标工艺区块11a完成曝光工艺后，则屏蔽 件22、24分别退回至原位，如图2C所示。

不过，在已知技术中，屏蔽件的移动定位多半是以粗略的机械定位方式 以达成，举例来说，可能是通过曝光装置中附加的定位机构以确认屏蔽件的 移动位置(或距离)；更甚者，部分的已知技术中是以目测的方式来确认屏 蔽件的移动位置(或距离)。这些方式在过去母板内工艺区块密度较低的时 候，确实可满足工艺误差的要求，但在降低成本、提高产能的前提下，母板 必须具有较高的工艺区块密集度，也因此相对地使得工艺误差的范围随之缩 小，故如此粗糙的屏蔽件位置确认方式已经无法符合工艺误差的要求。

因此，如何提供一种掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位置确 认方法，实属重要课题之一。

发明内容

本发明的目的为提供一种掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位 置确认方法，其通过对位标尺的设计并搭配曝光工艺以确认屏蔽件的位置。

本发明的目的为提供一种掩膜上的对位标尺及应用对位标尺的屏蔽件位 置确认方法，其利用对位标尺的设计，以增加自动确认屏蔽件位置的精准度。

为达上述目的，本发明揭露一种掩膜上的对位标尺，其具有一基准线且 包含一测量部与一刻号部。测量部位于基准线的第一侧，且由多个第一测量 单元与多个第二测量单元所构成；其中，各第一测量单元与各第二测量单元 相邻设置，且第一测量单元的长度大于第二测量单元的长度。刻号部则位于 基准线的第二侧，且由一第一刻号单元与多个第二刻号单元所构成；其中， 第一刻号单元设置于第二刻号单元之间，且第一刻号单元的长度大于第二刻 号单元的长度；所述第二测量单元的长度不小于所述第一刻号单元的长度。