[发明专利]单元集合中的单元及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810213690.3 申请日: 2008-08-21
公开(公告)号: CN101373743A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 萨姆·齐昆·赵;钟重华;雷泽厄·拉曼·卡恩 申请(专利权)人: 美国博通公司
主分类号: H01L23/00 分类号: H01L23/00;H01L21/78
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 代理人: 蔡晓红
地址: 美国加州尔湾市奥尔顿公*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 单元 集合 中的 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种单元集合中的单元,所述单元包括多层,其特征在于,包括

功能区域;及

防止裂纹蔓延至所述功能区域的防护结构;

所述防护结构包括在所述单元的每一层表面形成的图案,及将每一层表面 形成的图案连接的导通孔;所述防护结构还包括位于所述单元边角部位的暴露 电镀区域。

2.根据权利要求1所述的单元,其特征在于,所述防护结构用于防止切 割分离工序中造成的裂纹蔓延至所述功能区域。

3.根据权利要求1所述的单元,其特征在于,所述防护结构形成在所述 单元在切割分离工序中的受压区域。

4.根据权利要求1所述的单元,其特征在于,所述防护结构沿所述单元 集合的单元之间的边界形成。

5.根据权利要求1所述的单元,其特征在于,所述防护结构包括从以下 形式中选择的图案:网格、多根线条和多个剖切面(plane)。

6.根据权利要求5所述的单元,其特征在于,所述防护结构包括金属材 料。

7.根据权利要求5所述的单元,其特征在于,所述单元包括多层,其中 所述表面是第一层的表面,所述防护结构还包括在第二层的表面形成的第二图 案。

8.一种制造单元条带(strip)中的单元的方法,所述单元包括多层,其特 征在于,包括:

形成功能区域;及

形成用于防止裂纹蔓延至所述功能区域中的防护结构;

所述防护结构包括在所述单元的每一层表面形成的图案,及将每一层表面 形成的图案连接的导通孔;所述防护结构还包括位于所述单元边角部位的暴露 电镀区域。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法还包括布图所述 单元,其中所述布图所述单元包括:

布图所述功能区域;及

布图所述防护结构。

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