[发明专利]基片上的可光聚合干膜的湿层叠以及与湿层叠有关的组合物无效
申请号: | 200810213708.X | 申请日: | 2008-08-26 |
公开(公告)号: | CN101430507A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | 余成之;P·G·C·T·D·乔治 | 申请(专利权)人: | E.I.内穆尔杜邦公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;B32B37/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基片上 聚合 层叠 以及 有关 组合 | ||
发明领域
本发明一般涉及将可光聚合的干膜(有时称作光致抗蚀剂)层叠在基片上。更具体地,本发明的湿层叠方法和组合物涉及改进的湿层叠液体组合物及方法,结果是改进光致抗蚀剂的性能。
发明背景
将干膜光致抗蚀剂施用于基片时:
1.可发生不希望有的空气夹带,特别当层叠界面的表面是不规则的或者是非平面时可发生上述现象;和
2.不希望有的残余材料(如,防锈残余物,如,基片表面是铜或不锈钢时)会阻碍干膜的粘合,
因此,如果这样的话,最终产品的电路图案的电路线易于发生不希望有的断裂或其他缺陷。
一般来说,已知湿层叠法(用于将光致抗蚀剂干膜施用于铜层叠物)。参见,例如美国专利第4,976,817号(Correa等)。但是,采用新一代电路板设计,电路图案会变得更小,因此,对空气夹带和不希望有的表面残余物的允许水平更低。因此,需要能用于干膜的湿层叠系统,该光致抗蚀剂具有改进的性能,特别是关于不希望有的空气夹带和不希望有的表面残余物方面的性能。
发明概述
本发明涉及一种用于制造电路化基片的层叠系统。该层叠系统包括干膜光致抗蚀剂和包括金属(如,铜或不锈钢)表面或非金属表面的层叠基片。本发明的层叠方法还包括包含水和表面能改进剂的层叠液体。
附图说明
图1是本发明一个实例的线分辨率图;
图2是本发明一个实例的分辨率图;
图3是本发明一个实例的制品的照片。
优选实施方式的详细描述
在本发明的一个实施方式中,采用常规或非常规的湿层叠方法,将干膜光致抗蚀剂施用于铜层叠物的铜表面。在湿层叠方法中,将湿层叠液体施涂在光致抗蚀剂干膜和基片表面之间。湿层叠液体是用来填充层叠在一起的两层的表面的任何不规则之处,因而阻止这两层之间夹带空气。然后,可以使湿层叠液体挥发或者将其除去。
本发明的湿层叠液体可以是基于水并且最多为50,60,70,80,90,95,96,97,98,99,99.5或99.9重量%的水。在一个实施方式中,在加入层叠液体之前,水组分符合以下条件:1.不含不希望有的离子形式到足以使电阻率(resistivity)至少为100,101,102,103,104,105,106,107,108或109欧姆;和2.溶解的氧含量小于15,14,12,11,10,9,8,7,6,5,4,3,2,1或0.1ppm。
根据本发明,本发明的湿层叠液体包含至少一种表面改进剂。在一个实施方式中,表面能改进剂是以下的一种或多种:
1.有机醇;
2.有机磷酸酯;
3.含氟醇,如:
式中,R是氢、烷基,n是最大为25的正整数。
4.阴离子表面活性剂,如,基于硫酸根、磺酸根或羧酸根的阴离子的表面活性剂,包括以下:
a.十二烷基硫酸钠(SDS),
b.月桂基聚氧乙烯醚硫酸钠(sodium laureth sulfate)(月桂基醚硫酸钠),
c.月桂基硫酸铵,和
d.烷基苯磺酸盐,
e.脂肪酸盐,
f.十二烷基硫酸钠(SDS),月桂基硫酸铵和其他烷基硫酸盐
5.阳离子表面活性剂,如:
a.十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)即十六烷基三甲基溴化铵,和其他烷基三甲基铵盐
b.十六烷基氯化吡啶鎓(CPC)
c.聚乙氧基化牛油胺(POEA)
d.烷基苄基二甲基氯化铵(BAC)
e.异辛基苯氧基乙氧基乙基苄基二甲基氯化铵(BZT)
6.两性离子(两性)表面活性剂,如:
a.十二烷基甜菜碱
b.十二烷基二甲基氧化胺
c.椰油酰氨基丙基甜菜碱(cocamidopropyl betaine)
d.N-(椰油酰氨基乙基}-N-(2-羟基乙基)甘氨酸钠(coco amphoglycinate)
7.非离子表面活性剂,如:
a.烷基聚(环氧乙烷),
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