[发明专利]接触发光元件、其制造方法以及指纹识别装置有效

专利信息
申请号: 200810214013.3 申请日: 2008-08-22
公开(公告)号: CN101656299A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 蔡尚勋 申请(专利权)人: Testech株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56;G06K9/00
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余 朦;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 接触 发光 元件 制造 方法 以及 指纹识别 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及接触发光元件与其制造方法及使用该接触发光元件 的指纹识别装置,更详细地说,涉及能够薄型化、增加光构图的辉度, 从而改善指纹图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接 触发光元件的指纹识别装置。

背景技术

作为生命体识别装置,有指纹识别元件,指纹识别装置是由光源、 棱镜(prism)、透镜(lens)、图像传感器(image sensor)及控制部件构 成的。

如果手指接触棱镜表面,从光源产生的光透过棱镜之后,照射到 接触棱镜的手指。照射到手指上的光变换成基于指纹的隆起和谷线部 分的光构图之后,通过棱镜照射到图像传感器上,图像传感器将其变 换成电气信号后输出。控制部接收从图像传感器输出的电气信号,根 据手指的指纹产生指纹图像,从该指纹图像算出奇异点之后,与预先 储存的指纹图像比较,从而确认身份。

发明要解决的问题

然而,现有的使用光源或棱镜的光学式指纹识别装置由于使用了 棱镜等光学系统,很难薄型化,由于接触棱镜的手指上照射了光,指 纹的隆起和谷线会产生散射光,从而具有使光的辉度减小、指纹图像 的质量降低等问题。

本发明的目的是为了解决所述的问题点,提供能够薄型化、增加 光构图的辉度,改善指纹图像质量的接触发光元件与其制造方法及使 用它的指纹识别装置。

用于解决课题的方法

为了实现这样的目的,本发明的接触发光元件的特征在于包括: 透明绝缘层;透明电极层,形成于透明绝缘层上,连接交流电源,接 受交流供电;发光层,形成于透明电极层上,在接触物体后,通过供 给透明电极层的交流流过物体产生的电场,产生基于发光物体的接触 面构图的光构图,通过透明电极层,照射透明绝缘层;浸透调节层, 形成于发光层上,调节黑色颜料向发光层的浸透,防止外部光渗透发 光层;遮光层,形成于浸透调节层上,防止外部光透过浸透调节层; 第一保护层,形成于遮光层之上,防止水分浸透遮光层,提供粘结力; 和形成于第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。

本发明的接触发光元件的制造方法的特征在于包括:提供透明绝 缘层;使用溅镀(spattering)或蒸镀方法在透明绝缘层上镀铟锡氧化 物(ITO)材料,形成透明层;将聚合物粘胶20~30wt%,缓聚剂 (retarder)35~39wt%,发光体粉末40~50wt%及辉度及色相调节添加 剂0.1~5wt%混合后,用丝印法镀在透明电极上,形成发光层;将聚 合物粘胶15~35wt%,黑色颜料5~25wt%,缓聚剂20~35wt%,可塑剂 10~15wt%及BaTiO3粉末42~63wt%混合,用丝印法镀在发光层上, 形成浸透调节层;将黑色颜料1~5wt%,聚酯(polyester)5~30wt%, 乙二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%及二甲苯(xylene)50~71wt%混合后, 用丝网印刷法镀在浸透层上,形成遮光层;将黑色颜料5~10wt%, 氟树脂5~15wt%,丙烯酸树脂10~25wt%,缓聚剂11~22wt%,可塑 剂5~15wt%及BaTiO3粉末40~55wt%混合后,用丝网印刷法镀在遮 光层上,形成第一保护层;将醇酸树脂10~25wt%,三聚氰胺树脂 5~35wt%,氢化聚合物1~35wt%,乙二醇单乙醚乙酸酯5~10wt%, 丙烯酸(类)树脂10~35wt%及二氧化硅(SiO2)粉末0.1~2wt%混合后 用丝网印刷法镀在第一保护层上,形成第二保护层。

本发明的指纹识别装置的特征在于包括:

接触发光元件,包括:透明绝缘层;透明电极层,形成于透明绝 缘层上,连接交流电源,接受交流供电;发光层,形成于透明电极层 上侧,接触物体后,通过供给透明电极层的交流电流过物体所产生的 电场,产生基于发光物体的接触面构图的光构图,通过透明电极层, 照射透明绝缘层;浸透调节层,形成于发光层上,调节黑色颜料向发 光层的浸透,防止外部光侵入发光层;遮光层,形成于浸透调节层上, 防止外部光透过浸透调节层;第一保护层,形成于遮光层上,防止水 分浸透遮光层,提供粘结力;和形成于第一保护层上的具有耐磨性的 第二保护层;

形成于接触发光元件的透明绝缘层下方,提供粘结力的透明粘结 剂层;和

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