[发明专利]光扫描装置以及包括该光扫描装置的图像形成装置无效
申请号: | 200810214036.4 | 申请日: | 2008-08-22 |
公开(公告)号: | CN101373269A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | 栗林廉 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝泰格有限公司 |
主分类号: | G02B26/10 | 分类号: | G02B26/10;B41J2/455;H04N1/04;G03G15/01 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;尚志峰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 扫描 装置 以及 包括 图像 形成 | ||
1.一种光扫描装置,其特征在于,包括:
光源,用于射出一个或者多个光束;
偏转前光学系统,用于向从所述光源射出的光束赋予规定的特性;
光偏转装置,用于将通过所述偏转前光学系统赋予了规定的特性的光束通过反射沿主扫描方向向被扫描对象物偏转,该主扫描方向是指通过多面反射镜各激光被偏转的方向;
传感器,用于检测通过所述光偏转装置偏转的光束的一部分;以及
偏转后光学系统,包括用于使通过所述光偏转装置偏转的光束在所述被扫描对象物上成像的成像透镜,
其中,所述成像透镜的射出面侧包括:透镜形状部,用于使通过了所述成像透镜的入射面的、来自所述光偏转装置的偏转面的光束在所述被扫描对象物的被扫描面上成像;以及全反射面形状部,所述全反射面形状部包括全反射面,所述全反射面用于使通过了所述成像透镜的入射面的、来自所述光偏转装置的偏转面的光束的一部分全反射两次以上,并且,所述成像透镜包括透过面形状部,所述透过面形状部包括使基于全反射面的全反射之后的光束透过的透过面,透过所述透过面的光束被引导至所述传感器,
所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上具有光功率,
设定所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上所具有的光功率,以便所述被扫描对象物的被扫描面上的fθ特性与所述传感器面上的fθ特性相等。
2.根据权利要求1所述的光扫描装置,其特征在于,
设定所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上所具有的光功率,以便所述被扫描对象物的被扫描面上的光束直径与所述传感器面上的光束直径相等。
3.根据权利要求1所述的光扫描装置,其特征在于,
所述光扫描装置的光学系统是在副扫描方向上以不同的高度使多个光束透过所述成像透镜的光学系统,与光束相同数目的所述传感器以规定的间隔沿副扫描方向排列并被配置在同一基板上,并且,所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上所具有的光功率被设定,以使将来自所述光偏转装置的偏转面的多个光束被引导至各个所述传感器,其中,所述副扫描方向是与光学系统的光轴以及主扫描方向垂直的方向。
4.根据权利要求1所述的光扫描装置,其特征在于,
所述光扫描装置的光学系统是在副扫描方向上以不同的高度使多个光束透过所述成像透镜的光学系统,在基板上配置有一个所述传感器,并且,设定所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上所具有的光功率,以使将来自所述光偏转装置的偏转面的多个光束全部被引导至同一所述传感器,其中,所述副扫描方向是与光学系统的光轴以及主扫描方向垂直的方向。
5.根据权利要求1所述的光扫描装置,其特征在于,
所述光扫描装置的光学系统是在副扫描方向上以不同的高度使多个光束透过所述成像透镜的光学系统,数目少于光束数目的所述传感器以规定的间隔沿副扫描方向排列并被配置在同一基板上,并且,设定所述全反射面形状部的全反射面和所述透过面形状部的透过面中的一面以上所具有的光功率,以使将来自所述光偏转装置的偏转面的多个光束分别选择性地分配并被引导至任一个所述传感器,其中,所述副扫描方向是与光学系统的光轴以及主扫描方向垂直的方向。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的光扫描装置,其特征在于,
所述全反射面形状部的全反射面以及所述透过面形状部的透过面中的一面以上的形状在副扫描方向上为多级形状,并且,单独地设定反射角或光功率。
7.根据权利要求4或5所述的光扫描装置,其特征在于,
所述全反射面形状部的全反射面以及所述透过面形状部的透过面中的一面以上的形状是使光束入射到所述传感器的定时偏移这样的形状,或者设定所述全反射面形状部的全反射面以及所述透过面形状部的透过面中的任一面以上的形状,以便所述光功率使光束入射到所述传感器的定时偏移。
8.根据权利要求7所述的光扫描装置,其特征在于,
所述全反射面形状部的全反射面以及所述透过面形状部的透过面中的一面以上的形状在副扫描方向上为螺旋状的多级形状。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝;东芝泰格有限公司,未经株式会社东芝;东芝泰格有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810214036.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。