[发明专利]光刻设备和器件制造方法

权利要求书

1.一种浸没式光刻设备，所述浸没式光刻设备包括：

流体限制系统，所述流体限制系统配置用于将流体限制到投影系统和衬底之间的空隙中，所述流体限制系统包括配置用于供给流体的流体入口，所述流体入口连接到入口端口和出口端口；以及

流体供给系统，所述流体供给系统配置用于通过改变提供到所述入口端口的流体的流量和从所述出口端口去除的流体的流量来控制经过所述流体入口的流体流。

2.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述流体入口通向在流体限制系统的下侧中的流体供给入口。

3.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述流体供给系统包括阀门，所述阀门配置用于改变导管的横截面积，所述导管是来自出口端口的导管或将流体入口和出口端口进行流体连通的导管。

4.根据权利要求3所述的浸没式光刻设备，还包括支路导管，所述支路导管平行于所述阀门并且包括流动约束件。

5.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述流体供给系统包括阀门，所述阀门配置用于改变导管的横截面积，所述导管是连接在流体源和入口端口之间的导管，或者是使流体入口和入口端口进行流体连通的导管。

6.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述流体供给系统包括阀门，所述阀门配置用于改变导管的横截面积，所述导管使入口端口与排液管流体连通。

7.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，还包括控制器，所述控制器配置用于控制与流体供给系统相关联的阀门，所述控制器配置用于改变经过入口端口和出口端口的流体的流动，以改变经过该流体入口的流体的流量。

8.根据权利要求7所述的浸没式光刻设备，其中所述控制器配置用于维持流体的流量大致恒定。

9.根据权利要求1所述的浸没式光刻设备，其中所述流体供给系统配置用于采用单个阀门改变被提供到入口端口的流体的流量以及从出口端口去除的流体的流量。

10.根据权利要求9所述的浸没式光刻设备，其中所述单个阀门位于入口端口的上游或下游，或者位于出口端口的上游或下游。

11.一种使用如权利要求1所记载的浸没式光刻设备制造器件的方法，所述方法包括步骤：将图案化的辐射束经过采用流体限制系统限制在投影系统和衬底之间的空隙中的流体投影到衬底上，其中所述流体限制系统至少部分地由朝向衬底流出流体入口的流体所承载，且通过流入与流体入口相连的入口端口的流体的流动以及经由与流体入口相连的出口端口从流体入口流出的流体的流动来实现对流体入口的流体流量的调整。