[发明专利]一种光刻机曝光系统及其控制方法

权利要求书

1.一种光刻机曝光系统，包括依次连接的光源、光路系统组件、光刻镜头以及基板；所述光路系统组件将所述光源发射的光信号进行调制处理后输出，所述光刻镜头将所述光路系统组件输出的光信号聚焦到所述基版上形成第一光斑；其特征在于，所述光刻机曝光系统还包括：光学装置、控制器以及曝光镜头组合，所述控制器控制所述光学装置将所述光源发射的光信号射出，所述曝光镜头组合将所述光学装置射出的光信号聚焦到所述基版上形成第二光斑；所述第二光斑的直径大于所述第一光斑的直径。

2.如权利要求1所述的光刻机曝光系统，其特征在于，所述光学装置包括反射镜或折射镜。

3.如权利要求1所述的光刻机曝光系统，其特征在于，所述光刻机曝光系统还包括：

导光装置，连接所述光学装置与所述曝光镜头组合，将所述光学装置射出的光信号传输给所述曝光镜头组合。

4.如权利要求1所述的光刻机曝光系统，其特征在于，所述曝光镜头组合包括：光阑和凸透镜。

5.如权利要求1所述的光刻机曝光系统，其特征在于，所述光刻机曝光系统还包括：

快门开关，位于所述光源与所述光路系统组件之间，控制所述光源发射的光信号的输出。

6.如权利要求1所述的光刻机曝光系统，其特征在于，所述光路系统组件包括：

声光调制器，对所述光源出射的0级或1级衍射光信号进行光强调节后输出；

光学组件，根据光刻图形控制所述声光调制器输出的激光强度并调整所述激光的光束形状后输出；

声光偏转器，根据所述光学组件输出的光信号改变其出射角，使所述光信号以特定的频率在一定的角度内扫描。

7.一种权利要求1所述的光刻机曝光系统的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括下述步骤：

在对光刻图形进行处理时，将所述光刻图形的空白区裁去；

当需要对所述空白区曝光时，在用于控制所述光刻机曝光系统的控制软件中选择相应的曝光模式，并输入相关参数；

控制光学装置将光源发射的光信号射出给曝光镜头组合，由曝光镜头组合将所述光信号聚焦到基版上形成第二光斑；

平台根据所述控制软件中的参数进行运动，使基板上的空白区被快速曝光。

8.如权利要求7所述的光刻机曝光系统的控制方法，其特征在于，所述相关参数包括需要曝光的位置和面积。