[发明专利]一种A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法

说明书

技术领域

本发明属于铬板缺陷修补技术领域，尤其涉及一种铬版修补胶及采用该铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法。

背景技术

铬版是掩膜版(Photomask)的一种，也称光罩，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具，它使用石英玻璃或苏打制成，把电脑设计的图形通过曝光、显影、蚀刻等工艺转移到铬板表面的挡光材料上，形成新的图形，然后用于电子零件的批量复制生产过程。目前在铬版的生产过程中经常会产生白缺陷，该白缺陷在行业内也称针孔类缺陷，是指在铬版生产、使用过程中受某种因素的影响，图形有效区域内本来黑色遮光的区域出现了透光孔洞而形成的缺陷，随着其大小、位置、形状的变化也称为凹陷或断线。

现有技术领域中修补所述白缺陷主要使用油墨、金属修补液或CVD修补(化学气相沉积修补)，但是油墨只能修补一般的白缺陷，不能修补凹陷及断线；而金属修补液成本较高，且耐弱碱清洗液清洗能力差，清洗后容易脱落；采用CVD修补，成本极高，且无法修补玻璃基板造成的白缺陷，且修补工艺稳定性差；一旦上述三种修补方法失败，则无法再进行补救，铬版只能报废后再重新制作，造成很大的浪费。

发明内容

本发明的目的在于提供一种铬版修补胶，所要解决的技术问题在于：解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题。

本发明是这样实现的，一种铬版修补胶，包括下述重量份的原料：

金属纳米阻光材料：58％～78％wt，固化剂：20％～40％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，玻璃促进剂：0.1％～1％wt。

所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述玻璃促进剂为硅胶。

本发明的另一目的在于提供一种采用所述铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法，该方法包括以下步骤：

(1)在铬版背面将白缺陷的大致位置标出；

(2)在5～10倍显微镜下找到白缺陷的具体位置；

(3)将专用于铬版的修补笔的针尖除静电后，用修补笔的针尖沾少许所述制铬版修补胶，在显微镜下慢慢点于白缺陷上；

(4)将透光的白缺陷全部覆盖后，再使用透射光检查是否透光，否则再取少许所述铬版修补胶进行遮光，直到透射光看不到为止；

(5)检查白缺陷其它部位是否沾有铬版修补胶，否则需要将多余或残留的铬版修补胶清洁干净；

(6)打开反射光确认修补效果是否正常，否则使用乙醇或水擦拭干净后重新修补，直到修补合格为止；

(7)修补合格后再烘烤；

(8)如果烘干后的铬版修补胶有多余部分粘到玻璃上，则使用激光将该部分铬版修补胶去除掉。

本发明所提供的铬版修补胶及采用该铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法，解决了油墨无法修补凹陷及断线、金属修补液修补后不耐弱碱性清洗液清洗以及使用CVD修补无法修补玻璃基板造成的白缺陷的问题，且修补后超出白缺陷的铬版修补胶部分可以用激光熔融掉，这样就降低了修补难度、保证了修补后的黏附力，且成本低廉、操作简单。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例所提供的一种铬版修补胶，包括下述重量份的原料：

金属纳米阻光材料：58％～78％wt，固化剂：20％～40％wt，稀释剂：0.5％～2％wt，玻璃促进剂：0.1％～1％wt。

其中，所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种，所述金属纳米阻光材料具有调色遮光作用和一定的黏附作用；所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂，所述固化剂可以增加铬版修补胶的黏附性及调和铬版修补胶各组分的融合性；所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种，所述稀释剂可以促进铬版修补胶各组分的有效混合和调节铬版修补胶粘稠度和固化速度；所述玻璃促进剂为硅胶，具有增加铬版修补胶的黏附性的作用。

本发明铬版修补胶各组分的具体实施例如下：

实施例一：

实施例二：

实施例三：

实施例四：

实施例五：

实施例六：