[发明专利]具有蓝光发射荧光粉的VUV激发设备无效

专利信息
申请号: 200810219334.2 申请日: 2008-11-25
公开(公告)号: CN101740287A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 张明德 申请(专利权)人: 张明德
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523408 广东省东莞市松山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 具有 发射 荧光粉 vuv 激发 设备
【权利要求书】:

1.一种VUV激发设备,包括具有荧光粉涂层的放电室,该放电室含稀有气体或稀有气体混合物,该荧光粉涂层涂覆于放电室的内表面,当操作时该设备产生放电,其发射真空紫外辐射作为初次激发源,该荧光粉涂层含铕活化的钙取代钡六铝酸盐荧光粉。

2.权利要求1的VUV激发设备,其中铕活化的钙取代钡六铝酸盐荧光粉具有下式表示的组成:Ba1.29-x-yCaxEuyAl12O19.29,其中0<x<0.25和0.01<y<0.20。

3.权利要求1的VUV激发设备,其中该设备产生波长为147nm到173nm的真空紫外光。

4.权利要求1的VUV激发设备,其中该放电室含氙或氙和氦的混合物。

5.权利要求1的VUV激发设备,其中该荧光粉涂层另外含选自铕活化钡镁铝酸盐、涂覆氢氧化铝的铕活化钡镁铝酸盐和(Gd,La)PO4:Tm,Li的荧光粉。

6.权利要求1的VUV激发设备,其中该荧光粉涂层还含(Gd,La)PO4:Tm,Li荧光粉,并且铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉与(Gd,La)PO4:Tm,Li的比率以重量计是2∶1-20∶1。

7.权利要求1的VUV激发设备,其中铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉涂覆有氢氧化铝。

8.一种VUV激发设备,包括具有荧光粉涂层的放电室,该放电室含稀有气体或稀有气体混合物,该荧光粉涂层涂覆于该放电室的内表面,当操作时该设备产生放电,其发射真空紫外辐射作为初次激发源,该荧光粉涂层含铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉,该铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉具有下式表示的组成:Ba1.29-x-yCaxEuyAl12O19.29,其中0<x<0.25和0.01<y<0.20。

9.权利要求8的VUV激发设备,其中该设备产生波长为147nm到173nm的真空紫外光。

10.权利要求8的VUV激发设备,其中该放电室含氙或氙和氦的混合物。

11.权利要求8的VUV激发设备,其中该荧光粉涂层还含选自铕活化钡镁铝酸盐、涂覆有氢氧化铝的铕活化钡镁铝酸盐和(Gd,La)PO4:Tm,Li的荧光粉。

12.权利要求8的VUV激发设备,其中该荧光粉涂层还含(Gd,La)PO4:Tm,Li荧光粉,并且铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉与(Gd,La)PO4:Tm,Li的比率以重量计是2∶1-20∶1。

13.权利要求8的VUV激发设备,其中铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉涂覆有氢氧化铝。

14.一种产生蓝光的方法,该方法包括采用真空紫外辐射激发蓝光发射荧光粉,该蓝光发射荧光粉包括铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉。

15.权利要求14的方法,其中铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉具有下式表示的组成:Ba1.29-x-yCaxEuyAl12O19.29,其中0<x<0.25和0.01<y<0.20。

16.权利要求14的方法,其中该设备产生波长为147nm到173nm的真空紫外光。

17.权利要求15的方法,其中该设备产生波长为147nm到173nm的真空紫外光。

18.权利要求14的方法,其中该荧光粉涂层还含选自铕活化钡镁铝酸盐、涂覆有氢氧化铝的铕活化钡镁铝酸盐和(Gd,La)PO4:Tm,Li的荧光粉。

19.权利要求14的方法,其中该荧光粉涂层还含(Gd,La)PO4:Tm,Li荧光粉,并且铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉与(Gd,La)PO4:Tm,Li的比率以重量计是2∶1-20∶1。

20.权利要求14的方法,其中铕活化钙取代钡六铝酸盐荧光粉涂覆有氢氧化铝。

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