[发明专利]一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法无效
申请号: | 200810220435.1 | 申请日: | 2008-12-25 |
公开(公告)号: | CN101497538A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 刘一军;谢志军;赵存河;李万平;吴耀驹 | 申请(专利权)人: | 萧华 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86;C04B33/34 |
代理公司: | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人: | 梁国杰 |
地址: | 528211广东省佛山市南海*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 立体 半抛带 暗花 装饰 仿古 生产工艺 方法 | ||
技术领域:
本发明涉及一种地面或者墙面装饰用瓷质仿古砖生产技术领域,具体地说是涉及一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产工艺方法。
背景技术:
目前市场上的装饰用普通瓷质仿古砖,无立体点釉的保护,图案和颜色不耐磨,时间一久,就会变得模糊不清,防污性差;还有就是在砖面上施点釉,但点釉太小,又不耐磨,且砖面上无暗花效果,整个制品层次不丰富,过渡少,不具有自然的玉质感效果。普通瓷质仿古砖的图案和颜色接近天然石材,但是不具有立体玉质感带暗花的仿天然石材,也就不具有独特的装饰效果。因此,需要发明一种新的装饰瓷质仿古砖生产工艺方法,解决上述问题。
发明内容:
本发明针对上述现有技术存在的不足,提供一种产品表面施立体点釉,高温烧成后半抛形成有天然立体玉质感,带暗花装饰的瓷质仿古砖生产工艺方法。
为实现上述目的,本发明提供的技术方案为:一种立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖的生产方法,该方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后,再用胶辊在砖面上印一层花釉,然后用平板厚模印刷一层半透明釉料,再施以立体透明点釉,经1210~1220℃高温烧成后,对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉,产生一个个点光,从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
所述胶辊为1~4色多种组合的具有仿天然装饰图案的辊筒。
胶辊花釉是按重量份配方:釉粉40~100份、司马印油100~150份、色料5~60份配置而成,其细度控制在325目≤0.5%,出球后必须过200目筛,陈腐12小时以上。
平板厚模印刷的半透明釉料是按重量份配方:釉粉80~100份、硅酸锆1~20份、司马印油30~50份、印油30~5份配制而成。
所述的立体透明点釉是按重量份配方:釉料90~100份、三聚磷酸钠0.2份、甲基0.2份配制而成。
本发明是在现有瓷质仿古砖的生产工艺基础上,包括哑光面釉、透明点釉和胶辊印花釉、平板厚模印暗花(半透明釉料),立体点釉半抛光等多种生产工艺的复合。高温烧成后半抛形成有天然立体玉质感,带暗花装饰的瓷质仿古砖生产工艺方法,由于设置了高温立体点釉和暗花效果,使得制品表面质感更接近天然石材;由于瓷质仿古砖设置为经过1210~1220℃的高温烧制并且半抛光而成,制品强度高,有良好的防污性和耐磨性;本发明制备的瓷质仿古砖能机械化批量生产,能完全替代天然石材,因而成本低廉,环保实用。
附图说明:
图1为本发明的瓷质仿古砖生产工艺流程
图2为本发明的瓷质仿古砖一个实施例立体半抛前的截面示意图
图3为本发明的瓷质仿古砖一个实施例立体半抛后的截面示意图
图4为本发明的瓷质仿古砖一个实施例的立体半抛面示意图
图5为本发明的瓷质仿古砖一个实施例的暗花纹理示意图
图6为本发明的立体点釉制备简易装置结构示意图
具体实施方式:
本发明的方法是先在干燥后的瓷质坯体上施一层哑光面釉后,再用胶辊在砖面上印一层花釉,然后用平板厚模印刷一层半透明釉料,再施以立体透明点釉,经1210~1220℃高温烧成后,对立体透明点釉进行半抛形成半抛点釉,产生一个个点光,从而制得立体半抛带暗花装饰瓷质仿古砖。
下面结合附图详细介绍本发明,其具体操作过程如下本发明的瓷质仿古砖立体半抛带暗花装饰的整个生产工艺流程如图1所示。
1、设计瓷质仿古砖坯体配方时,为了控制好砖的变形,在原有配方的基础上适量提高氧化铝的含量,使坯体抵抗高温变形的能力增强,同时降低坯体的热膨胀系数。使用的原料为铝砂、南拓砂、恩平石粉、苍梧石粉、银盏砂、黑滑石和纯泥等多种泥砂料的复合。本实施例的坯体配方为(重量份):铝砂16~20%、南拓砂8~15%、恩平石粉16~22%、苍梧石粉16~22%、银盏砂10~20%、黑滑石1~5%、纯泥13~20%,经球磨加工和喷雾干燥形成坯粉。
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