[发明专利]在导电层上形成绝缘层和导电层、在导电层间形成电连接的方法及相应多层电路板生产方法有效

专利信息
申请号: 200810220481.1 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN101765297A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 王利平 申请(专利权)人: 王利平
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;H05K3/40;H05K3/46
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 温旭
地址: 519000 广东省珠海*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 导电 形成 绝缘 连接 方法 相应 多层 电路板 生产
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种在导电层上形成绝缘层和导电层、在导电层间形成电 连接的方法及相应多层电路板生产方法。

具体地讲:本发明涉及一种“在导电层上形成绝缘层和新导电层、并 在原导电层和新导电层间形成导电连接的方法”及该方法在多层电路板生 产中的应用。

背景技术

高密度多层印制电路板的制造过程中包括:芯板钻孔、图形转移、电 路蚀刻、盲孔制做、孔金属化、表面绝缘化处理、焊盘表面镀覆等工艺过 程,其中实现高密度层间互连是其制造过程的技术关键,目前有叁种方法, 分别如下

第一种方法是利用镭射钻孔实现层间互连,具体步骤如下:

1、按普通双面板制造工艺制造芯板

高密度多层印制电路板盲孔制做是在高密度双面芯板制做完成后在 其板面上制做新一层电路时必不可少的工艺过程,其目的是实现芯板电路 与新生成电路的层间互连。

2、新一层导电层压合

镭射法制做盲孔前先用半固化粘合片将铜箔与芯板压合。

3、铜箔蚀孔

由于镭射钻孔机不能在铜箔上钻孔所以在使用镭射钻孔机钻孔前先 采用化学蚀刻的办法在铜箔表面将要钻孔的位置刻蚀成孔,因为化学蚀刻 法不能蚀刻现有的半固化粘合片。

4、镭射钻绝缘层孔

经过化学蚀刻后在铜箔上成好孔的半成品板可以顺利的在镭射钻孔 机上将半固化绝缘粘合片打窜至内层铜箔面。

4、孔金属化处理

经过镭射钻孔的基板利用现有的孔金属化电镀技术将内层铜箔导线 与外层铜箔导线通过新的镀铜层连接起来。

5、新一层电路形成

经过金属化电镀的基板利用普通电路板的化学蚀刻技术形成外层导 电线路。

重复2-6步可以制出更新一层电路,并完成铜箔之间的层间互连。

在该方法中多层板层间盲孔是用镭射钻孔机成孔的,加工成孔数量 多、密度高的电路板速度慢,效率低,成本高。

第二种方法:铜柱法

具体步骤如下:

1、按普通双面板制造工艺制造芯板

2、表面化学镀铜,即通过表面镀覆使已形成电路图形的芯板表面形 成一层极薄的铜导电层,为电镀铜柱做好导电准备。

3、感光掩膜后电镀形成铜柱

4、差蚀法除去化学铜

5、涂布绝缘层

6、磨去多余的绝缘层露出铜柱

7、表面处理后镀铜

8、蚀刻出新一层电路

重复2-8步可以制出更多层数的电路。

在该方法第6步中要用磨床加工,磨削量不好撑握;而且其第7步表 面镀铜时,新铜箔与绝缘层结合力不稳定、可靠性差,难以满足高密度多 层印制电路板的大规模工业化生产。

第三种方法 积层法

基本步骤如下:

1、按普通双面板制造工艺制造芯板。

2、涂布可感光性绝缘层。

利用丝网印刷或者热压合法在芯板上制做一层可感光显影性绝缘 层。

3、曝光显影出连接孔。

4、表面粗化处理后,在表面及孔内同时镀铜;

在经表面粗化处理的绝缘层上与孔内同时镀覆一层铜层。

5、蚀刻出新一层电路

重复2-5步,可以制做出更新一层电路,并完成铜箔之间的层间互连。

在该方法第3步中绝缘层上已经在形成了相应的孔,就不能采用热压 合的方法在绝缘层上设置铜箔,而第4步用镀铜表面镀铜时,新铜箔与绝 缘层结合力不稳定、可靠性差,难以满足高密度多层印制电路板的大规模 工业化生产。

发明内容

本发明要解决的技术问题是如何克服现有多层电路板的层间连接技 术的上述缺陷,提供一种在导电层上形成绝缘层和导电层、在导电层间形 成电连接的方法及相应多层电路板生产方法。

为解决上述技术问题,本发明在导电层上形成绝缘层和新导电层、并 在原导电层和新导电层间形成导电连接的方法,包括下述步骤:

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