[发明专利]等离子体处理设备、其射频装置以及射频输送方法

权利要求书

1、一种射频装置，用于等离子体处理设备，包括依次连接的射频电源、射频匹配器以及电感耦合线圈，其特征在于，所述电感耦合线圈包括位于所述等离子体处理设备反应腔室顶部中心位置的中心线圈，以及围绕所述中心线圈并沿所述反应腔室顶部径向分布的至少一组外周线圈；所述中心线圈以及各所述外周线圈均相互独立，且各线圈中射频电流的比例能够调整。

2、如权利要求1所述的射频装置，其特征在于，所述中心线圈以及各外周线圈均有一端接地，且其另一端均连接射频匹配器主体部的输出端；所述射频匹配器进一步包括设于其主体部的输出端与所述中心线圈以及外周线圈之间的可变元件，以改变各线圈之间的电流比例。

3、如权利要求2所述的射频装置，其特征在于，所述外周线圈的数目为一组，所述中心线圈以及外周线圈中至少一者与所述射频匹配器主体部的输出端之间串接第一可变电容。

4、如权利要求3所述的射频装置，其特征在于，进一步包括第二可变电容，由所述第二可变电容与所述第一可变电容串接而成的支路连接于地线和所述射频匹配器主体部的输出端之间。

5、如权利要求2所述的射频装置，其特征在于，所述外周线圈的数目为一组，所述中心线圈以及外周线圈中至少一者与所述射频匹配器主体部的输出端之间串接恒值电容；所述的射频装置进一步包括第二可变电容，由所述第二可变电容与所述恒值电容串接而成的支路连接于地线和所述射频匹配器主体部的输出端之间。

6、如权利要求1所述的射频装置，其特征在于，所述外周线圈与所述中心线圈在所述反应腔室顶部的径向上具有适当间距。

7、如权利要求1所述的射频装置，其特征在于，所述外周线圈和所述中心线圈为平面线圈或者立体线圈。

8、一种等离子体处理设备，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的射频装置。

9、一种射频输送方法，用于向等离子体处理设备的反应腔室中输入射频能量，其特征在于，通过至少两个相互独立的电感耦合线圈分别向所述反应腔室的中心部位以及至少一个围绕所述中心部位的外周部位输入射频能量，并根据所述中心部位以及外周部位中等离子体的浓度调整各电感耦合线圈中射频电流的比例。

10、如权利要求9所述的射频输送方法，其特征在于，各所述电感耦合线圈连接同一射频匹配器，各所述电感耦合线圈通过与其连接的可变元件调整所述射频电流的比例。