[发明专利]具有室温低场巨磁电阻效应的CoxC1-x/Co/Si多层结构颗粒膜材料无效

专利信息
申请号: 200810223238.5 申请日: 2008-09-28
公开(公告)号: CN101359716A 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 章晓中;谈国太;张歆;吴利华;万蔡华 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/10;H01L43/12;H01F10/32;H01F41/14;H01F41/20;G01R33/09;C23C14/28;C23C14/06
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 代理人: 史双元
地址: 100084北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 具有 室温 低场巨 磁电 效应 co sub si 多层 结构 颗粒 材料
【权利要求书】:

1.一种具有室温低场巨磁电阻效应的CoxC1-x/Co/Si多层结构颗粒膜材料,其特征在于:首先,在晶格取向100的Si基片上沉积一层厚度为2-20nm的Co薄膜,然后,在Co薄膜上面沉积一层颗粒膜厚度为10-60nm的CoxC1-x薄膜;其中CoxC1-x薄膜是先用纯度>99.99%的碳粉和纯度>99.99%的钴粉按Co的含量为2at%-20at%的比例混合,经过球磨,再热压成的C1-xCox靶,用激光脉冲沉积方法在真空镀膜室内、真空为10-4Pa量级、基片温度为T=300K恒定值的条件下沉积而获得。

2.根据权利要求1所述具有室温低场巨磁电阻效应的CoxC1-x/Co/Si多层结构颗粒膜材料,其特征在于:所述Co薄膜是用纯度>99.99%的钴粉热压成的Co靶,用激光脉冲沉积方法在真空镀膜室内、真空为10-4Pa量级、基片温度为T=300K恒定值的条件下沉积而获得。

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