[发明专利]温室型非制冷红外焦平面阵列有效
申请号: | 200810223350.9 | 申请日: | 2008-09-26 |
公开(公告)号: | CN101398330A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 董立军 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01J5/02 | 分类号: | G01J5/02 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 100029北京市朝*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温室 制冷 红外 平面 阵列 | ||
1.一种温室型非制冷红外焦平面阵列,包括密闭的封装壳体,所述封装壳体一面为锗玻璃窗口,另一面为光学玻璃窗口,其特征在于:所述封装壳体内充满高红外吸收率的温室气体或液体,封装壳体中间自上而下贯穿设置有一个焦平面阵列成像单元,焦平面阵列成像单元完全被气体或液体包围,所述焦平面阵列成像单元由双材料梁和反光板构成,双材料梁靠近光学玻璃窗口的一侧安装反光板,所述双材料梁为梳齿状阵列,由多个均匀间隔分布的梳齿条构成,每个梳齿条均由热膨胀系数相差很大的两种材料构成;
当红外辐射发生时,红外辐射透过红外透镜首先照射到高红外吸收率的温室气体或液体上,气体或者液体吸收红外辐射产生温升同时将温升传给所包裹着的焦平面阵列成像单元,由于热膨胀系数不一样导致双材料梁产生弯曲,带动反光板弯曲;
所述高红外吸收率的温室气体或液体为甲烷、一氧化二氮或四氯化碳。
2.如权利要求1所述的温室型非制冷红外焦平面阵列,其特征在于:每个梳齿条均由氮化硅和铝或氮化硅和金构成。
3.如权利要求2所述的温室型非制冷红外焦平面阵列,其特征在于:梳齿条靠近锗玻璃窗口的一侧为氮化硅,靠近光学玻璃窗口的一侧为铝或金,铝或金与氮化硅复合为一体。
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