[发明专利]一种高纯高致密多晶CeB6块体阴极材料的制备方法无效
申请号: | 200810225028.X | 申请日: | 2008-10-24 |
公开(公告)号: | CN101372339A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | 张久兴;周身林;刘丹敏 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | C01B35/04 | 分类号: | C01B35/04 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100124*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 致密 多晶 ceb sub 块体 阴极 材料 制备 方法 | ||
1.一种高纯高致密多晶CeB6块体阴极材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)将直流电弧蒸发冷凝设备反应室抽真空至1.0×10-2~3.0×10-3Pa后,充入体积比为1~4:1,总气压为0.1Mpa,纯度均为99.999%的高纯氢气和氩气,以金属钨为阴极,单质金属铈块为阳极,在反应电流80~150A,电弧电压20~45V,反应时间20~40min的条件下制备氢化铈纳米粉末;
2)将氢化铈纳米粉末和硼粉末在含氧量低于80ppm的预处理室中,按质量比1:0.456研磨混合后,装入石墨模具中;
3)将石墨模具放入SPS烧结设备中进行烧结,烧结工艺为:烧结气氛为2~10Pa的真空或纯度为99.999%的高纯氩气气氛,烧结压力为30~60MPa,烧结温度为1300~1700℃,升温速率为80~200℃/min,保温为3~20min,随炉冷却得到高纯高致密多晶CeB6块体阴极材料。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的氢化铈纳米粉末的粒径为20~60nm。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤2)中所述的硼粉末的粒径为20~50nm或2~10μm。
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