[发明专利]水合物微观渗流实验装置无效
申请号: | 200810225466.6 | 申请日: | 2008-10-31 |
公开(公告)号: | CN101393103A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 张旭辉;赵京;王爱兰;鲁晓兵;王淑云 | 申请(专利权)人: | 中国科学院力学研究所 |
主分类号: | G01N11/00 | 分类号: | G01N11/00;G01N13/04 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 尹振启 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水合物 微观 渗流 实验 装置 | ||
1.水合物微观渗流实验装置,其特征在于,该装置包括CCD观测处理系统、玻璃硅片模型、数据采集系统和气液注入装置,其中玻璃硅片模型包括用于水合物合成的孔穴和用于水合物微观渗流的微通道,气液注入装置所形成的气水饱和物注入孔穴,并且孔穴入口与气液注入装置的气体管路连通来保持压力,微通道出口处与气液注入装置的水管路连通来保持压力,以完成水合物的形成,通过关闭孔穴入口,开通微通道出口来进行水合物微观渗流,CCD观测处理系统用于观测并记录水合物的形成和微观渗流的过程,数据采集系统用于采集实验整个过程中的相关数据。
2.如权利要求1所述的水合物微观渗流实验装置,其特征在于,所述孔穴为毫米到微米量级,所述微通道为微米到纳米量级。
3.如权利要求1所述的水合物微观渗流实验装置,其特征在于,所述玻璃硅片模型上用PDMS膜进行封装。
4.如权利要求1所述的水合物微观渗流实验装置,其特征在于,所述CCD观测处理系统采用PIV技术,通过在流场中散播示踪粒子,从而得到所述微通道内多相流动流体的速度场。
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