[发明专利]一种制备具有高比表面积纳米氧化铝材料的方法无效
申请号: | 200810226248.4 | 申请日: | 2008-11-10 |
公开(公告)号: | CN101391786A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 朴玲钰;刘祥志;王琛;王孝平 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | C01F7/02 | 分类号: | C01F7/02 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100190北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 具有 表面积 纳米 氧化铝 材料 方法 | ||
1.一种制备具有高比表面积纳米氧化铝材料的方法,包括如下步骤:
1)制备有机相:首先按照体积比,油相A∶(表面活性剂B+助表面活性剂C)=1.0-5.0配料,其中所述的表面活性剂B∶所述的助表面活性剂C=1.0-5.0;将油相A、表面活性剂B与助表面活性剂C依次加入到反应容器中进行混合,形成均匀有机相;
2)强烈搅拌下,将浓度范围为0.05M-3.0M的无机铝盐水溶液与步骤1)得到的有机相混合,控制水与步骤1)中的表面活性剂的摩尔比范围为10-40,形成稳定的微乳液体系;
3)强烈搅拌下,将浓度范围0.05M-12.0M的碱性水溶液作为沉淀剂与步骤1)得到的有机相混合,控制水与步骤1)中的表面活性剂的摩尔比范围为10-40,形成稳定的微乳液体系;
4)制备纳米氢氧化铝:由以下方法之一制备:
方法一:强烈搅拌下,于15℃-80℃之间,将步骤2)得到的微乳液体系滴加到步骤3)得到的微乳液体系中,或者将步骤3)得到的微乳液体系滴加到步骤2)得到的微乳液体系中进行混合,滴加到溶液pH=7-13的碱性条件下,其滴加速度为1ml/min-40ml/min,使无机铝盐和沉淀剂在微小水核中进行反应,生成氢氧化铝浆料;
方法二:强烈搅拌下,于15℃-80℃之间,将无机铝盐水溶液滴加到步骤3)得到的微乳液体系中,或者将步骤3)得到的微乳液体系滴加到无机铝盐水溶液中进行混合,滴加到溶液pH=7-13的碱性条件下,其滴加速度为1ml/min-40ml/min,使无机铝盐和沉淀剂在微小水核中进行反应,生成氢氧化铝浆料;
方法三:强烈搅拌下,于15℃-80℃之间,将沉淀剂滴加到步骤2)得到的微乳液体系中,或者将步骤2)得到的微乳液体系滴加到沉淀剂中进行混合,滴加到溶液pH=7-13的碱性条件下,其滴加速度为1ml/min-40ml/min,使无机铝盐和沉淀剂在微小水核中进行反应,生成氢氧化铝浆料;
5)将步骤4)任何一种方法得到的氢氧化铝浆料,在15℃-80℃、pH=7-13的条件下老化5-50小时;
6)将步骤5)得到的氢氧化铝浆料过滤,分别用去离子水和有机溶剂依次进行洗涤,得到氢氧化铝滤饼;
7)将步骤6)得到的氢氧化铝滤饼,于70℃-160℃下干燥5-70小时,得到的氢氧化铝固体粉末;
8)将步骤7)得到的氢氧化铝固体粉末研磨均匀,于300℃-1000℃下焙烧2-10小时,即得到具有高比表面积的纳米氧化铝材料,该纳米氧化铝材料为γ-氧化铝物相,平均粒径为5-100nm,比表面积为200-500m2/g,孔容为1.5-2.5cm3/g,平均孔径为5-60nm;
其中,所述的油相A为含六到八个碳原子的烷烃、石油醚、润滑油基础油、油酸、硬脂酸中的一种或多种;
所述的表面活性剂B为聚乙二醇辛基苯基醚、烷基三甲基卤化铵、烷基二甲基卤化铵、烷基卤化铵、烷氧酞胺系列、琥珀酸二异辛酯磺酸钠、烷基磺酸钠、烷基苯磺酸钠、烷基硫酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚系列、烷基酚聚氧乙烯醚系列、壬基苯聚氧乙烯醚类、吐温的一种或多种;
所述的助表面活性剂C为正丁醇、正己醇、正戊醇、正辛醇、苯胺、丙烯酰胺、N-异丙基丙烯酰胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸钠或N-乙烯基吡啶,或者它们的组合。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的无机铝盐为无水或含结晶水的硝酸铝、硫酸铝或氯化铝中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的沉淀剂为碳酸铵、碳酸氢铵、氨气、氨水、尿素、六次甲基四胺、柠檬酸铵、碱金属的氢氧化物和碱金属的碳酸盐中的一种或多种,以水溶液形式加入。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的步骤6)中洗涤是使用去离子水洗涤1-10次,每次使用10-2000ml去离子水;之后再用有机溶剂洗涤1-10次,每次使用10-2000ml有机溶剂;
其中所述的有机溶剂为乙醇、甲醇、丙酮中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述的步骤7)中干燥方式包括普通烘箱干燥,或真空烘箱干燥,或两种交替采用;其中干燥温度范围为70-160℃,干燥时间范围为5-70小时;真空烘箱干燥时真空度为0.5MPa-0.005MPa。
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